[發(fā)明專利]一種導(dǎo)冷骨架及由其構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210175072.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102737805A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐躍進(jìn);徐穎;焦豐順;竇建中;董宏達(dá);宋萌;曹昆南;王達(dá)達(dá) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué);云南電力試驗(yàn)研究院(集團(tuán))有限公司電力研究院 |
| 主分類號(hào): | H01F6/04 | 分類號(hào): | H01F6/04;H01F6/00 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 骨架 構(gòu)成 高溫 超導(dǎo) 磁體 結(jié)構(gòu)件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于磁體導(dǎo)冷技術(shù),具體涉及一種導(dǎo)冷骨架及由其構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件。
背景技術(shù)
在超導(dǎo)電力應(yīng)用技術(shù)中,超導(dǎo)磁儲(chǔ)能裝置因其可以高密度地儲(chǔ)存電能,并可快速向系統(tǒng)提供有功、無功功率等特點(diǎn),應(yīng)用前景廣闊。大型SMES可以作為負(fù)荷調(diào)峰,中小型SMES可以補(bǔ)償負(fù)荷變動(dòng),抑制頻率波動(dòng)及電壓突降,改善系統(tǒng)穩(wěn)定性,還可用作分散電源系統(tǒng)中的儲(chǔ)能設(shè)備、緊急備用電源等特殊裝置。
傳統(tǒng)的超導(dǎo)磁體一般是將超導(dǎo)磁體浸泡在低溫液體中,采用液氦做冷卻劑進(jìn)行冷卻,超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)和運(yùn)行較為復(fù)雜,液氦價(jià)格也較昂貴,這些因素嚴(yán)重阻礙著超導(dǎo)磁體技術(shù)的發(fā)展,由于目前發(fā)現(xiàn)的高溫超導(dǎo)材料在液氮溫度的電流密度還不高,而且隨著磁場(chǎng)的增加迅速降低,而選用傳導(dǎo)冷卻方式,磁體的溫度可以控制在20K左右,高溫超導(dǎo)材料的臨界電流較高,可以充分利用高溫超導(dǎo)材料的高臨界電流特性。而在20K-40K這一溫區(qū),浸泡冷卻是不現(xiàn)實(shí)的,對(duì)于液氮來說溫度太低,而如果浸泡在液氦里,雖然還可以因?yàn)闇囟鹊倪M(jìn)一步降低而在臨界電流上有進(jìn)一步的提高,但由此獲得的收益與使用液氮來比,經(jīng)濟(jì)上和技術(shù)與運(yùn)行上并不可取,而且研究高溫超導(dǎo)體材料的目的正是避免使用價(jià)格高且運(yùn)行不方便的液氦冷卻系統(tǒng)。因此,高溫超導(dǎo)磁體選用傳導(dǎo)冷卻方式是可行的和實(shí)用的。磁體內(nèi)部的導(dǎo)冷結(jié)構(gòu)與超導(dǎo)體繞組直接接觸,通過熱傳導(dǎo)的方式,將磁體運(yùn)行過程中產(chǎn)生的熱量帶走,而一個(gè)有效的導(dǎo)冷結(jié)構(gòu)是傳導(dǎo)冷卻高溫超導(dǎo)磁體制冷技術(shù)的關(guān)鍵。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明的目的是提供一種導(dǎo)冷骨架及由其構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件,目的是提高超導(dǎo)磁體熱穩(wěn)定性和低溫冷卻系統(tǒng)熱效率。
本發(fā)明提供的一種導(dǎo)冷骨架,其特征在于,該骨架由氮化鋁制成,為圓環(huán)狀,其截面為凹凸形,圓環(huán)骨架的內(nèi)沿部分的上部為凸起,凸起部分的高度為D1,內(nèi)沿部分的下部為凹槽,凹槽部分的高度為D2,凹槽部分與凸起部分寬度相等,D1與D2之差等于導(dǎo)冷片的厚度。
由上述導(dǎo)冷骨架構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件,其特征在于,超導(dǎo)線材繞制在圓環(huán)骨架徑向外側(cè),其上、下由軸向的兩個(gè)導(dǎo)冷片夾住,構(gòu)成模塊化的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件。
多個(gè)高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件上、下疊加,相鄰兩個(gè)導(dǎo)冷骨架之間的凸起部分與凹槽部分上下緊扣,構(gòu)成高溫超導(dǎo)磁體。
本發(fā)明提供的一種導(dǎo)冷骨架及由其構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件,由于采用新型的導(dǎo)冷結(jié)構(gòu),克服了傳統(tǒng)導(dǎo)冷結(jié)構(gòu)磁體熱穩(wěn)定性差,磁體工作過程中溫升高的弊端,它采用模塊化的結(jié)構(gòu),凹凸?fàn)畹牡X(AlN)圓環(huán)作為超導(dǎo)線材的內(nèi)部支撐,超導(dǎo)線材直接繞制在凹凸式氮化鋁(AlN)圓環(huán)骨架上,每個(gè)雙餅和骨架作為一個(gè)獨(dú)立模塊,骨架之間可以上下緊扣的凹凸間隙,與傳統(tǒng)的骨架相比可以使磁體組裝后更穩(wěn)定可靠。同時(shí)骨架與骨架之間有良好的接觸,并且骨架與導(dǎo)冷片也能有直接的面接觸,使得導(dǎo)冷效果更好,利于提高磁體熱穩(wěn)定性和低溫冷卻系統(tǒng)熱效率。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實(shí)例提供的導(dǎo)冷骨架構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1中高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件的1/2垂直切面示意圖;
圖3為圖2的A區(qū)域截面示意圖;
圖4為由高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
如圖1所示,由本實(shí)例提供的導(dǎo)冷骨架構(gòu)成的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件包括導(dǎo)冷片1、超導(dǎo)線材2和骨架3。
如圖2、圖3所示,骨架3由氮化鋁(AlN)制成,為圓環(huán)狀,其截面為凹凸形,圓環(huán)骨架3的內(nèi)沿部分的上部為凸起,凸起部分的高度為D1,內(nèi)沿部分的下部為凹槽,凹槽部分的高度為D2,凹槽部分與凸起部分寬度相等,D1與D2之差等于導(dǎo)冷片1的厚度。
超導(dǎo)線材2繞制在氮化鋁(AlN)圓環(huán)骨架3徑向外側(cè),形成高溫超導(dǎo)磁體雙餅結(jié)構(gòu),其上、下由軸向的兩個(gè)導(dǎo)冷片1夾住,共同構(gòu)成模塊化的高溫超導(dǎo)磁體結(jié)構(gòu)件,多個(gè)模塊可以上下疊加成所需的高溫超導(dǎo)磁體,如圖4所示。
這種凹凸式的氮化鋁(AlN)圓環(huán)骨架3作為超導(dǎo)線材2的內(nèi)部支撐,骨架與骨架之間留有可以上下緊扣的凹凸間隙,除此之外,凸起部分外側(cè)所形成的間隙也為導(dǎo)冷片1留出了插入的空間,這樣做不僅使得導(dǎo)冷片1得到固定,也增加了導(dǎo)冷片1與氮化鋁(AlN)圓環(huán)骨架3的接觸面,對(duì)于傳導(dǎo)制冷的高溫超導(dǎo)磁體導(dǎo)冷效果來說是非常有利的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華中科技大學(xué);云南電力試驗(yàn)研究院(集團(tuán))有限公司電力研究院,未經(jīng)華中科技大學(xué);云南電力試驗(yàn)研究院(集團(tuán))有限公司電力研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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