[發明專利]光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置無效
| 申請號： | 201210174949.4 | 申請日： | 2012-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN102680447A | 公開（公告）日： | 2012-09-19 |
| 發明（設計）人： | 張海波;袁志軍;周軍;樓祺洪;魏運榮;何兵;漆云鳳;杜松濤 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G01N21/64 | 分類號： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學材料 缺陷 損傷 檢測 裝置 | ||
1.一種光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置，其特征在于該檢測裝置由激光器（1）、聚焦透鏡（2）、載物臺（3）、待測光學樣品（4）、成像透鏡（5）、光纖（6）、光柵光譜儀（7）和計算機（8）組成，上述各部件的位置關系如下：
激光器（1）輸出的探測光束經聚焦透鏡（2）聚焦后，入射到置于載物臺（3）上的待測光學樣品（4），激光激發待測光學樣品（4）產生的熒光信號經成像透鏡（5）后由光纖（6）導入所述的光柵光譜儀（7），由該光柵光譜儀（7）輸出的熒光信號的光譜和熒光強度信息送所述的計算機（8）顯示。
2.根據權利要求1所述的光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置，其特征在于所述的激光器（1）是具有高脈沖能量、高光子能量的準分子激光器或倍頻YAG激光器。
3.根據權利要求1所述的光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置，其特征在于所述的待測光學樣品（4）為熔融石英、或氟化鈣晶體的紫外光學材料。
4.根據權利要求1所述的光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置，其特征在于所述的載物臺（3）為空間XYZ三維行程可調的平臺。
5.根據權利要求1所述的光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置，其特征在于所述的光纖（6）為抗紫外輻射的石英光纖，該光纖在190nm-1100nm較寬的光譜范圍內均有較好的透射性，并且紫外激光輻照后透射率不會出現明顯的老化。
6.根據權利要求1所述的光學材料的缺陷和光致損傷的檢測裝置，其特征在于所述的光柵光譜儀（7）的波長響應范圍為190nm～1100nm。
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