[發明專利]一種藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法

無效

• 申請號: 201210174234.9
• 申請日: 2012-05-30
• 公開（公告）號: CN102683518A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 王家鑫;吳奎;曾一平
• 申請（專利權）人: 中國科學院半導體研究所
• 主分類號: H01L33/00
• 分類號: H01L33/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 湯保平

1.一種藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，包括以下步驟：

1)在藍寶石襯底上淀積一層二氧化硅膜；

2)在二氧化硅膜上，排布一單層緊密排列的自組裝球；

3)加熱，使自組裝球與二氧化硅膜結合牢固；

4)采用ICP方法，刻蝕聚苯乙烯球，經過刻蝕后，聚苯乙烯球間距變大，球半徑減小；

5)再加熱，使自組裝球在二氧化硅膜上有稍微塌陷；

6)在自組裝球表面、間隙及二氧化硅膜的表面蒸鍍金屬；

7)采用甲苯超聲方法，去除自組裝球表面的金屬；

8)高溫處理，使自組裝球氣化，使保留的金屬形成網孔狀金屬掩膜；

9)以網孔狀金屬為掩膜，用F基等離子體ICP的方法，刻蝕二氧化硅膜；

10)以網孔狀金屬為掩膜，用Cl基等離子體刻蝕方法，刻蝕藍寶石襯底，或者用硫酸和磷酸的混合液濕法刻蝕得到納米孔狀藍寶石圖形襯底；

11)用王水或強酸溶液去除金屬掩膜，用氫氟酸溶液去除二氧化硅膜，得到藍寶石納米孔狀圖形襯底。

2.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中自組裝球的材料為聚苯乙烯，直徑為0.1-1um。

3.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中采用ICP刻蝕自組裝球的刻蝕氣體為氧氣，300W起輝功率，10W刻蝕功率，刻蝕時間1-2min。

4.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中用甲苯超聲的處理時間為1-5min。

5.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中加熱的溫度為80℃。

6.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中再加熱的溫度為105℃，加熱時間為1-5min。

7.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中高溫處理的溫度為500-600℃，處理時間為10-30min。

8.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中，金屬的材料為Al或Cr。

9.根據權利要求1所述的藍寶石納米孔狀圖形襯底的制備方法，其中藍寶石襯底的刻蝕深度為500-600nm。