[發明專利]光學防偽元件、使用該光學防偽元件的產品及其制備方法

有效

• 申請號: 201210174152.4
• 申請日: 2012-05-30
• 公開（公告）號: CN102975568A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 孫凱;王曉利;朱軍;李欣毅;曲欣;張巍巍
• 申請（專利權）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: B44F1/12
• 分類號: B44F1/12;G02B3/06
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 肖冰濱;南毅寧

1.一種光學防偽元件，該光學防偽元件包括基材，所述基材具有相互對立的第一表面和第二表面，所述第一表面上覆蓋有微采樣工具，所述第二表面的一部分為由微浮雕結構形成的微圖文、另一部分為未形成微圖文的平坦結構和/或為與形成微圖文的微浮雕結構不同的微浮雕結構，未形成微圖文的所述平坦結構和與形成微圖文的微浮雕結構不同的微浮雕結構上同形覆蓋有第一鍍層，形成微圖文的所述微浮雕結構上同形覆蓋有第二鍍層，所述微采樣工具對所述微圖文進行采樣。

2.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，所述微采樣工具為微透鏡陣列。

3.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，所述微浮雕結構包括衍射光柵、隨機散射結構和亞波長光柵中的任意一種或其組合。

4.根據權利要求3所述的光學防偽元件，其中，當所述微采樣工具和所述衍射光柵均是一維的時，所述微采樣工具的方向與所述衍射光柵的方向之間的夾角位于30度至90度的范圍內。

5.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，所述第一鍍層和所述第二鍍層的結構是相同或不同的。

6.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，當所述微浮雕結構為大深寬比的亞波長微浮雕結構時，所述第一鍍層的結構和所述第二鍍層的結構不同。

7.根據權利要求5所述的光學防偽元件，其中，所述鍍層包括下述各種鍍層中的任意一種或其組合：單層金屬鍍層；多層金屬鍍層；由吸收層、低折射率介質層和反射層形成的鍍層，其中該吸收層與所述微浮雕結構相接觸；高折射率介質層鍍層；由高折射率介質層、低折射率介質層和高折射率介質層依次堆疊形成的多介質層鍍層；以及由吸收層、高折射率介質層和反射層依次堆疊形成的鍍層，其中，該吸收層與所述微浮雕結構相接觸。

8.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，所述第一鍍層和/或所述第二鍍層上覆蓋有隔離層，所述隔離層的表面被平整化。

9.根據權利要求8所述的光學防偽元件，其中，所述隔離層上覆蓋有第一吸收層。

10.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其中，所述第一鍍層和/或所述第二鍍層中形成有鏤空結構。

11.一種使用根據權利要求1至10中任一項權利要求所述的光學防偽元件的防偽產品。

12.一種制備根據權利要求1所述的光學防偽元件的方法，該方法包括：

提供基材，所述基材具有相互對立的第一表面和第二表面；

在所述基材的第一表面上形成微采樣工具；

在所述基材的第二表面的一部分上形成由微浮雕結構形成的微圖文，在所述基材的第二表面的另一部分上形成未形成微圖文的平坦結構和/或與形成微圖文的微浮雕結構不同的微浮雕結構；以及

在未形成微圖文的所述平坦結構和與形成微圖文的微浮雕結構不同的微浮雕結構上同形覆蓋第一鍍層，并在形成微圖文的所述微浮雕結構上同形覆蓋第二鍍層。

13.根據權利要求12所述的方法，該方法還包括：

在所述第一鍍層和/或所述第二鍍層上形成表面被平整化的隔離層。

14.根據權利要求13所述的方法，該方法還包括：

在所述隔離層上形成第一吸收層。

15.根據權利要求12所述的方法，該方法還包括：

在所述第一鍍層和/或所述第二鍍層中形成鏤空結構。