[發明專利]一種航空有機玻璃的真空鍍膜制備方法及其制備無效
| 申請號: | 201210173936.5 | 申請日: | 2012-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN102677002A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發明(設計)人: | 宮杰;劉家興;許鏡明;蔡中林;鄔紀澤 | 申請(專利權)人: | 宮杰;劉家興;鄔紀澤 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/12 |
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| 地址: | 610041 四川省成都市*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 航空 有機玻璃 真空鍍膜 制備 方法 及其 | ||
1.一種航空有機玻璃的真空鍍膜制備方法及其制備,其特征在于:它采用一套電子束蒸發和離子輔助的真空鍍膜裝置連續制備″輔-主-輔″三層沉積薄膜結構,其制備工藝流程是:第一步驟真空沉積輔助底層薄膜,第二步驟真空蒸鍍主薄膜,第三步驟真空沉積輔助頂層薄膜,制備主膜用的膜材(二氧化鋯或二氧化鉿)被電子束聚焦能量加熱蒸發和在輔助離子轟擊下,在底層膜之上沉積形成的是光學增透膜,底層和頂層輔助薄膜的制備是用有機樹脂類(優選:聚四氟乙烯樹脂、氟碳樹脂、二甲基硅樹脂、聚硅氧烷樹脂中的其中一種)液體在真空室外被加熱后成汽態狀態,用一針型閥門調控輸入真空室的蒸汽流量,在離子轟擊下被電離成有機物分子而沉積在基片表面上形成輔助底層薄膜,而制備輔助頂層薄膜是在主層薄膜之上采用與上述制備輔助底層薄膜相同的方法。
2.根據權利要求1所述的一種航空有機玻璃真空鍍膜的制備方法及其制備,其特征在于:所用的一個立式真空鍍膜裝置包括一立式單開門真空室、一真空泵組、一電子槍電子束蒸發系統、一帶轉位的內置鍍膜材料的四穴水冷坩堝、一可轉移位的擋板、一離子轟擊捧、真空室頂部有一垂直軸系帶動一轉盤,其上均布有三組可公轉/自轉的基材夾具機架、一光電式膜厚監測系統、一數顯式主電控系統,在真空室外部有一裝有機樹脂液體的不銹鋼制的電阻式加熱容器和送氣管、一針閥開關和一個與真空室箱體連通的噴嘴。該裝置一次可裝入三塊經予凈化處理的被鍍制基材,實現按程序連續完成三層簿膜結構的制備。
3.根據權利要求1所述的一種航空有機玻璃真空鍍膜的制備方法及其制備,其特征在于:制備輔助底層簿膜的工藝是,真空室運行在普通真空狀態,當真空度達8~10Pa時,將真空室外的有機樹脂類液體材料加熱汽化后的蒸汽用針閥開關調控噴入真空室內的汽體流量,用離子轟擊成分子態的有機樹脂類材料,產生輝光放電,加速沉積在所述的基材工件表面上,用離子轟擊2分鐘±10秒的時間實現底層簿膜厚度的控制。
4.根據權利要求1所述的一種航空有機玻璃真空鍍膜的制備方法及其制備,其特征在于:制備中間層的主簿膜(光學增透膜)的工藝是,真空室運行在相對高真空狀態,當極限真空達6×10-3~6.2×10-3Pa時,打開電子槍電子束發生器,將聚焦電子束班聚焦加熱坩堝內第N穴位的一種金屬氧化物的鍍膜材料(二氧化鋯或二氧化鉿),同時移開坩堝上端的擋板,在電子束蒸發和輔助離子轟擊下蒸鍍膜材的分子沉積在底層膜上形成光學增透膜,用光電膜厚監測系統實時檢測,主膜層厚度控制在300nm~450nm內。
5.根據權利要求1所述的一種航空有機玻璃真空鍍膜的制備方法及其制備,其特征在于:制備輔助頂層簿膜的工藝是,真空室運行在普通真空狀態,當真空度達8~10Pa時,將真空室外的有機樹脂類液體材料加熱汽化后的蒸汽用針閥開關調控噴入真空室內的汽體流量,用離子轟擊成分子態的有機樹脂類材料,產生輝光放電,加速沉積在已按權利要求4制備好的主簿膜的表面上,用離子轟擊2分鐘±10秒的時間實現頂層簿膜厚度的控制。
6.根據權利要求4所述的制備中間層的主薄膜層的工藝,對于透明的或不透明的合成樹脂類的不同材料,蒸鍍膜材不限于二氧化鋯或二氧化鉿,還可采用二氧化鈦、氧化硅、二氧化硅、氟化鎂等組合。
7.根據權利要求3和權利要求5所述的制備輔助底層或輔助頂層簿膜的工藝,對于透明的或不透明的合成樹脂類的材料真空鍍膜不同的要求,采用有機樹脂類成膜材料不限于權利要求1所述的聚四氟乙烯樹脂、氟碳樹脂等四種,還可采用6246硅樹酯、有機硅油樹脂等多種。
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