[發明專利]凹面全息光柵制作中的曝光光路系統及調整回轉中心的方法

有效

• 申請號: 201210170225.2
• 申請日: 2012-05-28
• 公開（公告）號: CN102681366A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 王琦;李柏承;朱沛;張大偉;黃元申;倪爭技;莊松林
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/18
• 代理公司: 上海東創專利代理事務所(普通合伙) 31245
• 代理人: 寧芝華

1.一種凹面全息光柵制作中的曝光光路系統，包括：光源（1），第一全反鏡（2），分束鏡（3），第二全反鏡（4），第三全反鏡（5），第一空間濾波器（6），第二空間濾波器（7），凹面全息光柵基片（8），二維平移裝置（12），第四全反鏡；其特征在于：

A)凹面全息光柵制作中的曝光光路:

光源的光依次與第一全反鏡（2），分束鏡（3）；第二全反鏡（4），第三全反鏡（5）；第一空間濾波器（6）；第二空間濾波器（7）；凹面全息光柵基片（8）通過光連接；凹面全息光柵基片（8）放置于二維平移裝置（12）上方的夾具（9）內；

B)所述的二維平移裝置結構：

所述的二維平移裝置（12）底部連接旋轉臺（13），二維平移裝置上表面設置有二維移動滑道，二維平移裝置的上方連接移動滑塊，移動滑塊底部的滑軌與滑道連接，移動滑塊相鄰側端分別連接X方向移動旋鈕10，Y方向移動旋鈕11，移動滑塊上方固接夾具（9），曝光光路系統的凹面全息光柵基片（8）置于夾具（9）內。

2.根據權利要求1所述的凹面全息光柵制作中曝光光路系統的調整回轉中心的方法，其特征在于按照如下步驟進行：

步驟1）在旋轉臺（13）上凹面全息光柵基片放置處放置第四全反鏡，通過第二全反鏡（2），使得從光源（1）出射的光線正入射到旋轉臺（13）上的第四全反鏡的中心，利用旋轉臺的旋轉和二維平移裝置（12）的X,Y方向的旋鈕調節，分別使旋轉臺順時針方向旋轉180度和90度，再次使得第二全反鏡（2）反射的光線正入射到旋轉臺上的第四全反鏡的中心，此時第四全反鏡的中心位置即為旋轉臺中心位置，將需要曝光的涂有光刻膠的凹面全息光柵基片置于第四全反鏡的位置，即精確確定了凹面全息光柵基片（8）中心位于羅蘭圓（14）上；

步驟2）、根據凹面全息光柵理論計算及優化的結果可以得出兩束記錄球面波與凹面全息光柵基片中心的距離，以及這兩束球面波主光線與凹面全息光柵基片法線的夾角；通過改變球面波的位置可以改變像差的大小，進而達到消除光學系統中的像散和慧差的目的；根據計算結果，搭建凹面光柵的曝光光路裝置，通過第一空間濾波器（6）和第二空間濾波器（7）使產生的球面波形成的干涉場對固定在夾具（9）上的涂覆光刻膠的凹面全息光柵基片進行曝光。