[發明專利]一種石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜的制備方法有效
| 申請號: | 201210169973.9 | 申請日: | 2012-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN102660740A | 公開(公告)日: | 2012-09-12 |
| 發明(設計)人: | 郭新立;朱圣清;張彤;湯銓;劉建雙 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | C23C28/00 | 分類號: | C23C28/00;H01L31/0224;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石墨 金屬 納米 顆粒 復合 薄膜 制備 方法 | ||
1.?一種石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜的制備方法,其特征在于,該石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜主要包括:第一石墨烯薄膜層(1)、第二石墨烯薄膜層(3)、第三石墨烯薄膜層(5)、第一金屬納米顆粒薄膜層(2)和第二金屬納米顆粒薄膜層(4);石墨烯薄膜層和金屬納米顆粒薄膜層這兩種薄膜材料相互交替疊加形成石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜,并與基底材料(6)構成整體,作為分子拉曼信號檢測基底或透明增效的太陽能電池電極。
2.?根據權利要求1所述的一種石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜的制備方法,其特征在于,所述的基底材料(6)采用硅片或石英玻璃。
3.?根據權利要求1所述的一種石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜的制備方法,其特征在于,這種方法主要包含5個步驟:
a、首先利用化學氣相沉積法在銅或鎳金屬基底上外延生長一層石墨烯薄膜,石墨烯薄膜厚度為數埃到幾十納米,通過溶液腐蝕掉金屬基底方式得到第一石墨烯薄膜層(1),并轉移至基底材料(6)的表面上;
b、把第一石墨烯薄膜層(1)及基底材料(6)整體作為直流電極采用電泳方法放入含有金屬納米顆粒溶液中,在第一石墨烯薄膜層(1)表面制備第一金屬納米顆粒薄膜層(2),或以第一石墨烯薄膜層(1)及基底材料(6)為整體在第一石墨烯薄膜層(1)表面真空蒸鍍一層金屬納米薄膜并高溫退火得到第一金屬納米顆粒薄膜層(2);
c、在第一金屬納米顆粒薄膜(2)上再鋪覆一層化學氣相沉積法制備的第二石墨烯薄膜層(3);
d、在第二石墨烯薄膜層(3)上利用電泳方法或真空蒸鍍并退火的方法制備一層第二金屬納米顆粒薄膜層(4);
e、在第二金屬納米顆粒薄膜層(4)上再次鋪覆一層化學氣相沉積法制備的第三石墨烯薄膜層(5)。
4.?根據權利要求3所述的一種石墨烯和金屬納米顆粒復合薄膜的制備方法,其特征在于所述的第一金屬納米顆粒薄膜層(2)和第二金屬納米顆粒薄膜層(4)的單個納米顆粒單元形貌包括球型、橢球形、棒形、三角板形、正方形、六邊形或碟片形,尺寸大小為數納米到數十納米。
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