[發(fā)明專利]一種適于地下礦山大產(chǎn)能、低成本嗣后充填的采場結(jié)構(gòu)布置方式

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210169627.0
• 申請日: 2012-05-29
• 公開（公告）號: CN102817614A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡永泉;張傳信;趙繼銀;喻六平;張鵬;劉培正
• 申請（專利權(quán)）人: 中鋼集團(tuán)馬鞍山礦山研究院有限公司
• 主分類號: E21C41/16
• 分類號: E21C41/16
• 代理公司: 馬鞍山市金橋?qū)＠碛邢薰?34111
• 代理人: 常前發(fā)

1.一種適于地下礦山大產(chǎn)能、低成本嗣后充填的采場結(jié)構(gòu)布置方式，沿脈巷道（8）布置在采場的兩側(cè)，沿脈巷道（8）的側(cè)邊布設(shè)有溜井（14）和人行通風(fēng)天井（13），其特征在于：將井下厚大礦段組合劃分為多個開采盤區(qū)（1），在各個盤區(qū)劃分成3~6個連續(xù)采場（2），在盤區(qū)（1）邊緣劃出一個盤區(qū)間柱（3），垂直方向上布置有盤區(qū)頂柱（4）和盤區(qū)底柱（5），盤區(qū)底柱（5）的側(cè)面為斜面；所述的盤區(qū)頂柱（4）內(nèi)設(shè)有充填巷道（15）；在沿脈巷道（8）之間的設(shè)有穿脈巷道（9）、出礦巷道（10）、拉底巷道（16），穿脈巷道（9）位于盤區(qū)間柱（3）底部，出礦巷道（10）位于盤區(qū)底柱（5）內(nèi)；拉底巷道（16）位于盤區(qū)底柱（5）之間，拉底巷道（16）采用中深孔爆破、切割形成拉底空間，最終形成采場塹溝（11）；在采場塹溝（11）、出礦巷道（10）之間設(shè)有出礦進(jìn)路（12）。

2.如權(quán)利要求1所述的一種適于地下礦山大產(chǎn)能、低成本嗣后充填的采場結(jié)構(gòu)布置方式，其特征在于：所述盤區(qū)（1）長度60~100m、盤區(qū)間柱（3）寬度20~30m；盤區(qū)采場（2）數(shù)量4~6個；每個盤區(qū)采場（2）寬度10～18m、長度30～90m、高度40～90m；盤區(qū)頂柱（4）和盤區(qū)底柱（5）的高度分別為10~15m。