[發(fā)明專利]接近式曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210169115.4
• 申請日: 2012-05-28
• 公開（公告）號: CN102854752A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發(fā)明（設計）人: 前田武文;森本賀津美
• 申請（專利權）人: 恩斯克科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京泛誠知識產權代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;朱弋

技術領域

本發(fā)明涉及一種接近式曝光裝置，更具體而言，涉及適用于將掩模圖案曝光轉印在例如液晶顯示器或等離子顯示器等大型平板顯示器等的基板上的接近式曝光裝置。

背景技術

接近式曝光是將表面涂敷有感光劑的透光性基板（被曝光件）保持在曝光裝置的工作臺（work?stage）上，同時使該基板與保持在掩模裝載臺的掩模保持框中的掩模接近，使兩者的間隙為例如數十微米～數百微米，利用照射裝置，從掩模的與基板呈相反側的一側，向掩模照射曝光用光，由此將繪制在掩模上的圖案曝光轉印到基板上的技術。

另一方面，盡管在接近式曝光中存在著使掩模與基板大小相同以集中進行曝光的方式，但在這樣的方式中，在將掩模的圖案曝光轉印到大型基板上時，掩模大型化，將因掩模的撓曲而對圖案的精度造成影響，或在成本等方面發(fā)生問題。鑒于該狀況，在現有技術中，當在大型基板上進行掩模圖案的曝光轉印時，有時會采用所謂步進式的接近式曝光方式，即，采用比基板小的掩模，使工作臺相對于掩模步進移動，每移動一步，就在掩模與基板接近配置的狀態(tài)下，照射圖案曝光用光，由此將繪制在掩模上的多個圖案曝光轉印到基板上的方式。用于保持基板的工作臺由電機驅動，相對于掩模執(zhí)行相對步進移動。

基板的曝光精度在受工作臺的移動精度的影響的同時，也受到基板溫度的極大影響。作為使工作臺移動的工件驅動部，以往，有利用進給絲杠機構將DC伺服電機等的旋轉運動變換為直線運動的裝置，但也存在著因進給絲杠的磨損或傳送不穩(wěn)等而達不到足夠的位置精度的情況，因此，為了因應近年的進一步高精度化，也有采用直線電動機的方案。然而，在采用直線電動機的情況下，來自直線電動機的發(fā)熱將導致工作臺的溫度升高，由工作臺保持的基板的溫度也隨之升高。直線電動機存在著運行期間與停機期間之間的溫度差大，從工作臺傳來的熱量導致基板膨脹或收縮，或者產生局部溫度不均，對曝光的精度造成極大的影響等問題。

為了解決這樣的熱性能問題，公開了一種精密移動工作臺，其在設有用于冷卻直線電動機的定子的冷卻裝置的同時，還在直線電動機的轉子和基座上分別設置溫度傳感器，通過將基座和直線電動機的溫度差控制為零，從而使得因直線電動機的發(fā)熱而產生于基座上的溫度分布實現穩(wěn)定化（例如，參照專利文獻1）。此外，已知還有如下的曝光裝置：其在激光干涉儀的反射鏡及其支承部上設置通氣孔，利用通氣裝置使空氣流過通氣孔，以減少隨裝載臺的溫度上升而產生的激光干涉儀的位置測量誤差、和隨裝載臺的移動而產生的因空氣擾動而導致的位置測量誤差（例如，參照專利文獻2）。

專利文獻

專利文獻1：日本特開平1-195389號公報

專利文獻2：日本特開平5-6850號公報

發(fā)明內容

發(fā)明要解決的課題

然而，專利文獻1所公開的精密移動工作臺盡管能夠消除基座與直線電動機之間的溫度差，但是，當致冷劑的溫度過高或過低時，存在著基板因該熱量而發(fā)生膨脹或收縮，從而影響基板的曝光精度的可能性。此外，專利文獻2的曝光裝置是通過使空氣流過通氣孔以抑制激光干涉儀的反射鏡的溫度的升高，從而實現位置測量誤差的降低的裝置，但由于未對工作臺的溫度進行管理，因此有可能產生因基板的膨脹或收縮導致的曝光不均。

本發(fā)明鑒于上述課題而做出，其目的在于，提供一種能夠對致冷劑的溫度進行管理，使得從直線電動機傳遞到基板的熱量一定，并能夠抑制由于基板的膨脹、收縮引起的對曝光精度的影響的接近式曝光裝置。

解決課題的手段

本發(fā)明的上述目的通過下述結構而得以實現。

（1）一種接近式曝光裝置，其特征在于，具有：

掩模保持部，其保持具有需要曝光的圖案的掩模；

工件保持部，其保持作為被曝光件的工件；

工件驅動部，其驅動上述工件保持部；和

借助上述掩模向上述工件照射圖案曝光用光的照射單元，

在上述掩模和上述工件互相接近并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將上述掩模的圖案曝光轉印到上述工件上，

上述工件驅動部是具有定子和與上述定子對向配置的轉子的直線電動機，并具有：

沿上述轉子配置的轉子側致冷劑循環(huán)通路；

向上述轉子側致冷劑循環(huán)通路循環(huán)供給致冷劑的轉子側致冷劑供給裝置；和

配置在上述轉子側致冷劑循環(huán)通路的入口和出口，用于檢測上述轉子側致冷劑循環(huán)通路的入口附近和出口附近的上述致冷劑的溫度的溫度傳感器，