[發(fā)明專利]氧化鋯及其生產(chǎn)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210168078.5
• 申請日: 2007-07-24
• 公開（公告）號: CN102745989A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·勞比;A·古格爾;R·奧特斯德特
• 申請（專利權(quán)）人: H·C·施塔克有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C04B35/626;H01M8/12
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 沙永生

1.一種粉狀氧化鋯，其含有至少一種金屬氧化物，且不超過10摩爾％的所述至少一種金屬氧化物選自鈧、稀土元素及其組合，所述氧化鋯含有不超過10摩爾%依據(jù)ASTM?B?417測量的填充密度為1.2-2.5克/厘米³的所述金屬氧化物。

2.一種粉狀氧化鋯，其含有氧化釔，其中最多10摩爾%的氧化釔依據(jù)ASTM?B?417測量的填充密度為1.2-2.5克/厘米³，且BET比表面積為5-18米²/克。

3.如權(quán)利要求1或2所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯的填充密度為1.3-1.9克/厘米³。

4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯含有3-10摩爾%的Y₂O₃。

5.如權(quán)利要求1或2所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯含有3-6摩爾%的Y₂O₃。

6.如權(quán)利要求2或3所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯含有3-10摩爾%的Yb₂O₃。

7.如權(quán)利要求2或3所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯含有3-4摩爾%的Y₂O₃。

8.如權(quán)利要求2或3所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯含有3-6摩爾%的Yb₂O₃。

9.如權(quán)利要求1所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯依據(jù)ASTM?D?3663測得的BET比表面積為5-18米²/克。

10.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯中單斜相的比例為5-80體積％。

11.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的粉狀氧化鋯，其特征在于，所述粉狀氧化鋯中單斜相的比例為20-80體積％。

12.一種生產(chǎn)摻有選自鈧、釔、稀土元素及其組合的金屬氧化物的氧化鋯的方法，該方法包括以下步驟：

a)按照一定的化學(xué)計(jì)量比提供氧化鋯和各金屬氧化物的水性懸浮液，包括通過分散劑穩(wěn)定該懸浮液；

b)使用研磨輔助品，在每千克所用固體引入>0.1千瓦時(shí)的凈研磨比能量的情況下，通過粉碎使所述懸浮液均化；

c)使所述懸浮液在>80°C的溫度干燥，得到均一的氧化物混合物；

d)在至少1200℃的溫度對氧化物混合物進(jìn)行燒結(jié)；

e)在每千克燒結(jié)產(chǎn)物引入>0.1千瓦時(shí)的比能量的情況下，對步驟d)中形成的燒結(jié)產(chǎn)物進(jìn)行制備懸浮液和粉碎的處理；

f)干燥所述懸浮液。

13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，使用的氧化鋯原料的晶體的邊長(a,b,c)為a=20-75納米，b=20-90納米，c=20-75納米。

14.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，a=30-50納米，b=45-60納米，c=35-45納米。

15.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，使用的氧化鋯原料依據(jù)ASTM?D?3663測得的BET比表面積為3-30米²/克。

16.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述原料的均化通過在0.2-1.5千瓦時(shí)/千克固體的凈研磨比能量下濕研磨來進(jìn)行。

17.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述懸浮液噴霧干燥。

18.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述燒結(jié)在1200-1350℃的溫度下進(jìn)行。

19.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述燒結(jié)的氧化物混合物的濕研磨在0.5-2.5千瓦時(shí)/千克氧化物混合物的凈研磨比能量下進(jìn)行。

20.包含如權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的粉狀氧化鋯的壓制體。