[發明專利]一種金屬樹脂復合體的制備方法及其制備的金屬樹脂復合體

有效

• 申請號: 201210167814.5
• 申請日: 2012-05-28
• 公開（公告）號: CN103451704A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 程云;章曉;郭強;陳梁
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: C25D11/24
• 分類號: C25D11/24;B29C45/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種金屬樹脂復合體的制備方法，其特征在于，包含以下步驟：

S1，陽極氧化：將經過前處理的金屬基材通過陽極氧化得到表面含有陽極氧化膜層的金屬基材，所述金屬基材為鋁合金基材或鋁基材；

S2，磷酸處理：將步驟S1所得含有陽極氧化膜層的金屬基材浸入磷酸溶液中處理，得到經過表面處理的金屬基材；

S3，注塑：將樹脂組合物注塑在經過表面處理的金屬基材表面，成型后得到金屬樹脂復合體。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述磷酸的質量百分濃度為3wt%～40wt%。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述磷酸的質量百分濃度為5wt%～30wt%。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述磷酸的質量百分濃度為5wt%～20?wt%。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述磷酸溶液中還添加有含鹵無機物。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述含鹵無機物為可溶性鹽酸鹽。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述可溶性鹽酸鹽選自氯化鈉、氯化鉀或氯化鋁中的一種或幾種。

8.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述磷酸溶液中可溶性鹽酸鹽的質量百分濃度為0.01wt%～10wt%。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述浸入磷酸溶液中處理的溫度為20℃-30℃。

10.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述浸入磷酸溶液中處理的時間為1-60min。

11.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S2包括將步驟S1所得含有陽極氧化膜層的金屬基材多次浸入磷酸溶液中處理，每次浸入磷酸溶液中處理的時間為1-10min，每次浸入磷酸溶液中處理后用水洗凈。

12.根據權利要求11所述的制備方法，其特征在于，所述浸入的次數為2到10次。

13.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S2之后步驟S3之前還包括將經過表面處理的金屬基材在水溶性聚合物溶液中浸泡改性。

14.根據權利要求13所述的制備方法，其特征在于，所述水溶性聚合物選自聚乙烯醇、聚乙二醇、聚丙烯酸、聚丙烯酸鹽、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酸鹽、聚乙烯磺酸、聚乙烯磺酸鹽、聚苯乙烯磺酸或聚苯乙烯磺酸鹽中的一種或幾種。

15.根據權利要求13所述的制備方法，其特征在于，浸泡改性的溫度為15℃-60℃，時間為1-30min。

16.根據權利要求13所述的制備方法，其特征在于，所述水溶性聚合物的濃度為1wt%-20wt%。

17.根據權利要求13所述的制備方法，其特征在于，所述在水溶性聚合物溶液中浸泡改性后還包括干燥去除溶劑。

18.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S2所得經過表面處理的金屬基材中的陽極氧化膜層包括與金屬基材接觸的阻擋層及位于阻擋層外表面的疏松層，所述疏松層的厚度為1-50um，所述阻擋層的厚度為10nm-1um。

19.根據權利要求18所述的制備方法，其特征在于，所述疏松層中含有陽極氧化膜微孔，所述陽極氧化膜微孔的孔徑為10nm-500um，所述阻擋層中含有阻擋層腐蝕孔，所述阻擋層腐蝕孔的孔徑為10nm-500um。

20.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟S2所得經過表面處理的金屬基材中的金屬本體包括與陽極氧化膜層接觸的腐蝕層，所述腐蝕層的厚度為10nm-200um。

21.根據權利要求20所述的制備方法，其特征在于，所述腐蝕層中含有金屬腐蝕孔，所述金屬腐蝕孔的孔徑為10nm-1mm。

22.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述陽極氧化包括將經過前處理的金屬基材作為陽極放入10wt%-30wt%?濃度硫酸或磷酸中，溫度10-30℃于5?V～35V電壓下電解2-15min得表面含有1-20um厚的陽極氧化膜層的金屬基材。