[發明專利]鎵離子場發射微推進器無效
| 申請號： | 201210164419.1 | 申請日： | 2012-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN102678501A | 公開（公告）日： | 2012-09-19 |
| 發明（設計）人： | 高輝;康琦;段俐;胡良 | 申請（專利權）人： | 中國科學院力學研究所 |
| 主分類號： | F03H99/00 | 分類號： | F03H99/00 |
| 代理公司： | 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡劍輝 |
| 地址： | 100190 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子 發射 推進器 | ||
1.一種鎵離子場發射推進器，其特征在于，包括：
發射部，具有毛細通道和毛細尖端；
加速部，位于所述發射部的前端，并與所述毛細尖端相鄰，所述加速部的與所述毛細尖端相對應的位置開設有加速條狀柵口，在所述毛細尖端和加速部之間施加有預定電壓的電場；
屏蔽部，位于發射部周圍，用于屏蔽所述加速部發射的電子流；
存儲部，與所述毛細通道相連通，用于存儲金屬鎵，與所述發射部之間具有預定的間距；
金屬鎵通過毛細作用，由所述存儲部經由所述毛細通道流到所述毛細尖端，在施加的所述電場的作用下產生離子羽流，從而獲得推力。
2.如權利要求1所述的鎵離子場發射推進器，其特征在于，所述加速部為大致1毫米厚的金屬板，所述柵口開設在金屬板的中間，所述柵口斷面處倒角形成尖端，并且所述柵口表面形成為光潔面。
3.如權利要求1所述的鎵離子場發射推進器，其特征在于，所述發射部包括：對稱的兩塊板狀金屬塊構成，在兩塊金屬塊之間經鍍膜構成微流結構層，從而形成所述毛細通道，在所述金屬塊上開設有導通所述毛細通道和存儲部的通孔。
4.如權利要求3所述的鎵離子場發射推進器，其特征在于，所述板狀金屬塊的材料為高溫合金。
5.如權利要求4所述的鎵離子場發射推進器，其特征在于，所述毛細通道高度為大致1μm，寬度為2～20毫米，深度為10～15毫米。
6.如權利要求1所述的鎵離子場發射推進器，其特征在于，所述存儲部的材料為鉬合金。
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