[發(fā)明專利]一種用于精餾塔內(nèi)件阻垢的改性碳納米涂層有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210164306.1 | 申請日: | 2012-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN103421361A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孟華;黃玲華;劉晨明;林曉 | 申請(專利權(quán))人: | 北京賽科康侖環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | C09D1/00 | 分類號: | C09D1/00;C23C16/44;B01D3/14;B01D3/32;B01J19/02;B01J19/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100080 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 精餾塔 內(nèi)件阻垢 改性 納米 涂層 | ||
1.一種用于精餾塔內(nèi)件阻垢的磷、硫改性碳納米涂層材料,其制備步驟包括:
1)原料配制:在冰水浴條件下,取雙二苯基膦甲烷,二巰基甲烷按照一定比例混合均勻,并保存在冰水浴中;
2)改性碳納米材料制備:取一定質(zhì)量的步驟1)得到的混合液,使用計(jì)量泵以0.1~200g/min的速度注入氬氣氛管式爐中,迅速加熱至1000~1300℃,此時(shí)原料液完全氣化,保持該氣化物在此步驟管式爐中的停留時(shí)間大于2秒,其目的是使其充分原子化;
3)化學(xué)氣相原位沉積:將需要涂層的塔內(nèi)件放置于氫氣或氬氣氛管式爐內(nèi),溫度控制在500~1300℃,將步驟2)得到的氣化物通入此步驟管式爐中,保溫10~60分鐘;
4)改性碳納米涂層生成:將步驟3)處理后的塔內(nèi)件轉(zhuǎn)移至0~90℃的恒溫器內(nèi),使其溫度迅速降低,最終在表面生成巰基和膦接枝的三維碳納米結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)能夠有效抑制鈣鹽和鎂鹽在表面沉積,且耐溫不低于160℃。
前述精餾塔內(nèi)件指安裝于精餾塔內(nèi)部的零件,包括:塔板、填料、蒸汽噴布管、液體分布器,及這些零件的配套零部件。
權(quán)利要求1)中所述的雙二苯基膦甲烷的分子式為C25H22P2、二巰基甲烷的分子式為CH4S2。所述的一定比例指雙二苯基膦甲烷,二巰基甲烷的質(zhì)量比為40∶1~1∶10。
權(quán)利要求2)中所述的取一定質(zhì)量,是指按照需涂層處理的塔內(nèi)件表面積計(jì)算,每平方米加入0.1g。所述的氬氣氛,其中含氧量應(yīng)小于0.1%。所述的停留時(shí)間指原料液進(jìn)入管式爐到氣化物離開管式爐的時(shí)間。
權(quán)利要求3)中所述的氫氣或氬氣氛,其中含氧量應(yīng)小于0.1%,含氮量應(yīng)小于0.2%。
權(quán)利要求4)中所述的恒溫器,其性能要求是在物料放置到其中時(shí),保持溫度波動(dòng)小于20℃。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京賽科康侖環(huán)保科技有限公司,未經(jīng)北京賽科康侖環(huán)保科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210164306.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





