[發明專利]高效率寬角度的耦合光柵

無效

• 申請號: 201210163678.2
• 申請日: 2012-05-23
• 公開（公告）號: CN102681066A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 黃戰華;尤勐;蔡懷宇
• 申請（專利權）人: 天津大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 天津佳盟知識產權代理有限公司 12002
• 代理人: 李益書

1.一種高效率寬角度的耦合光柵，其特征在于，所述的耦合光柵包含閃耀光柵結構的基底，在基底上鍍折射率、厚度不完全相同的三層膜，即第一層膜、第二層膜和第三層膜，第一層膜和第三層膜的折射率相同，第二層膜的折射率小于第一層膜和第三層膜；第一層膜的厚度大于第二層膜的厚度，第二層膜的厚度大于第三層膜的厚度，膜層上方即第三層膜與光束出射介質相粘合；光束出射介質一般為波導。

2.根據權利要求1所述的耦合光柵，其特征在于，基底呈現閃耀光柵的結構形貌；閃耀光柵斷面的槽型是單閃耀光柵，閃耀光柵一邊的槽線與底面傾斜，一邊的槽線與底面垂直。

3.根據權利要求1所述的耦合光柵，其特征在于，基底呈現閃耀光柵的結構形貌；閃耀光柵斷面的槽型是雙閃耀光柵，閃耀光柵一邊的槽線與底面傾斜，另一邊的槽線也與底面傾斜。

4.根據權利要求1所述的耦合光柵，其特征在于，基底材料為金屬。

5.根據權利要求1所述的耦合光柵，其特征在于，第一層膜和第三層膜的折射率大于2.4，第二層膜的折射率小于1.4。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的耦合光柵，其特征在于，由基底到出射介質的方向，膜層的厚度按照逐漸變薄的規則變化，第一層膜的厚度大于100nm、第二層膜的厚度大于60nm并小于100nm、第三層膜的厚度小于60nm。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的耦合光柵，其特征在于，與膜層上方粘合的出射介質是低折射率透明介質，出射介質的折射率小于第一層膜和第三層膜。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的耦合光柵，其特征在于，耦合光柵的周期由入射光束的波長而定，周期與波長的關系是：周期=波長/（n×sinA），其中n是出射介質的折射率；A是光束垂直入射光柵表面時，一級衍射光束與光柵表面法線的夾角。

9.根據權利要求8所述的耦合光柵，其特征在于，A大于出射介質在空氣中的全反射臨界角。