[發明專利]一種新型的含二苯并噻吩窄帶系共軛聚合物材料的制備無效
| 申請號： | 201210162481.7 | 申請日： | 2012-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN103421165A | 公開（公告）日： | 2013-12-04 |
| 發明（設計）人： | 李翠紅;薄志山;金恩泉 | 申請（專利權）人： | 李翠紅;薄志山;金恩全 |
| 主分類號： | C08G61/12 | 分類號： | C08G61/12;H01L51/46 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100875 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 新型 含二苯 噻吩 窄帶 共軛 聚合物 材料 制備 | ||
【權利要求書】：
1.一種新型的含氟窄帶隙共軛聚合物材料，分別為：
。
2.權利要求1所述材料的方法，主要步驟是：
氮氣氣氛下，以四氫呋喃和水為溶劑，將4，7-二(5-溴噻吩-2-基)-5，6-二(辛氧基)-[1，2，5]苯并噻二唑和3，6-二(辛氧基)-2，7-二硼酸-二苯并噻吩，摩爾比為1∶1，在四(三苯基膦)鈀催化下在100-120℃溫度下反應72小時，得到式I結構的含二苯并噻吩的共軛聚合物。?
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