[發(fā)明專利]雷射裝置的溫控方法及使用其的電子裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210162222.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103425148A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳嘉亨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信泰光學(xué)(深圳)有限公司;亞洲光學(xué)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G05D23/19 | 分類號(hào): | G05D23/19;G01K1/02 |
| 代理公司: | 深圳市順天達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 44217 | 代理人: | 王小青 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雷射 裝置 溫控 方法 使用 電子 | ||
1.?一種雷射裝置的溫控方法,其特征在于,適用于電子裝置,其中該電子裝置包括該雷射裝置與絕熱腔體,該溫控方法包括:
分別感測(cè)腔體溫度以及該雷射裝置的環(huán)境溫度,其中該腔體溫度為該絕熱腔體中所感測(cè)到的溫度,且該雷射裝置裝設(shè)于該絕熱腔體中;
持續(xù)偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于該雷射操作溫度范圍;
當(dāng)該環(huán)境溫度位于雷射操作溫度范圍之外時(shí),執(zhí)行例外處理程序;以及
當(dāng)該環(huán)境溫度位于該雷射操作溫度范圍之內(nèi)時(shí),循環(huán)調(diào)整該腔體溫度以使該雷射裝置輸出預(yù)定功率。
2.?如權(quán)利要求1所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,該例外處理程序包括:關(guān)閉該雷射裝置、或停止調(diào)整該腔體溫度、或執(zhí)行警示程序、或上述步驟的任意組合。
3.?如權(quán)利要求1所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,循環(huán)調(diào)整該腔體溫度以使該雷射裝置輸出該預(yù)定功率包括下列步驟:
逐次調(diào)整該腔體溫度以逐次判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率;以及
當(dāng)該雷射裝置并未輸出該預(yù)定功率時(shí),逐次偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于該雷射操作溫度范圍。
4.?如權(quán)利要求3所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,循環(huán)調(diào)整該腔體溫度以使該雷射裝置輸出該預(yù)定功率更包括下列步驟:
當(dāng)偵測(cè)該雷射裝置輸出該預(yù)定功率時(shí),維持該腔體溫度。
5.?如權(quán)利要求3所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,逐次調(diào)整該腔體溫度,并逐次判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率包括下列步驟:
逐次提高該腔體溫度,藉以逐次判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率,從而逐次偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于該雷射操作溫度范圍;
調(diào)整該腔體溫度回到該預(yù)定溫度;以及
逐次降低該腔體溫度,藉以逐次判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率,從而逐次偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于該雷射操作溫度范圍。
6.?如權(quán)利要求5所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,逐次提高該腔體溫度,并逐次判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率包括下列步驟:
將溫控訊號(hào)的準(zhǔn)位提高預(yù)定電壓以提高該腔體溫度,其中該溫控訊號(hào)對(duì)應(yīng)該腔體溫度;
判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率;
當(dāng)該雷射裝置并未輸出該預(yù)定功率時(shí),判斷偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于該雷射操作溫度范圍;以及
當(dāng)該環(huán)境溫度位于該雷射操作溫度范圍之內(nèi)時(shí),判斷提高該腔體溫度的次數(shù)是否大于預(yù)定提高次數(shù),且當(dāng)提高該腔體溫度的次數(shù)小于該預(yù)定提高次數(shù)時(shí),重復(fù)提高該腔體溫度的步驟。
7.?如權(quán)利要求6所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,逐次提高該腔體溫度,并逐次判斷該雷射裝置是否輸出該預(yù)定功率更包括下列步驟:
當(dāng)提高該腔體溫度的次數(shù)大于該預(yù)定提高次數(shù)時(shí),調(diào)整該腔體溫度回到該預(yù)定溫度。
8.?如權(quán)利要求5所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,循環(huán)調(diào)整該腔體溫度以使該雷射裝置輸出該預(yù)定功率更包括下列步驟:
判斷降低該腔體溫度的次數(shù)是否大于預(yù)定降低次數(shù),且當(dāng)降低該腔體溫度的次數(shù)大于該預(yù)定降低次數(shù)時(shí),執(zhí)行例外處理程序。
9.?如權(quán)利要求1所述的雷射裝置的溫控方法,其特征在于,更包括:
啟動(dòng)該電子裝置后,偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于該雷射操作溫度范圍;
當(dāng)該環(huán)境溫度位于該雷射操作溫度范圍之內(nèi)時(shí),調(diào)整該腔體溫度為預(yù)定溫度,并當(dāng)該絕熱腔體位于該預(yù)設(shè)溫度后,啟動(dòng)該雷射裝置。
10.?一種電子裝置,其特征在于,包括:
雷射裝置,發(fā)射雷射光線;以及
溫度控制裝置,包括絕熱腔體、溫度調(diào)節(jié)單元、控制單元、第一溫度傳感器以及第二溫度傳感器,該溫度調(diào)節(jié)單元及該雷射裝置設(shè)置于該絕熱腔體中,該溫度調(diào)節(jié)單元調(diào)節(jié)該絕熱腔體的腔體溫度,該第一溫度傳感器及該第二溫度傳感器分別感測(cè)該腔體溫度以及該雷射裝置的環(huán)境溫度,
其中,該控制單元循環(huán)調(diào)整該腔體溫度以使該雷射裝置輸出預(yù)定功率,并持續(xù)偵測(cè)該環(huán)境溫度是否位于雷射操作溫度范圍,且當(dāng)該環(huán)境溫度位于該雷射操作溫度范圍之外時(shí),該控制單元執(zhí)行例外處理程序。
11.?如權(quán)利要求10所述的電子裝置,其特征在于,該例外處理程序包括:關(guān)閉該雷射裝置、或關(guān)閉該溫度控制裝置、或執(zhí)行警示程序、或上述步驟的任意組合。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于信泰光學(xué)(深圳)有限公司;亞洲光學(xué)股份有限公司,未經(jīng)信泰光學(xué)(深圳)有限公司;亞洲光學(xué)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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