[發明專利]一種有機電致發光器件及其制備方法

無效

• 申請號: 201210161448.2
• 申請日: 2012-05-23
• 公開（公告）號: CN103427035A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 周明杰;王平;鐘鐵濤;陳吉星
• 申請（專利權）人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/54;B32B27/36
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種有機電致發光器件，包括陽極基板、功能層、發光層、金屬陰極和封裝層，所述陽極基板和所述封裝層形成封閉空間，所述功能層、發光層和金屬陰極容置在所述封閉空間內，其特征在于，所述封裝層依次包括保護膜層、多層材質相同的膜層交替設置形成的無機材料膜層和負載有金屬鋁或金屬銀的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜層，所述無機材料膜層的材質為SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、MgO、HfO₂、SiN或Si₃N₄。

2.如權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述無機材料膜層的厚度為50～200nm。

3.如權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述保護膜層的材質為酞菁銅、N，N’-(1-萘基)-N，N’-二苯基-4，4’-聯苯二胺、八羥基喹啉鋁、氧化硅、氟化鎂或硫化鋅。

4.如權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述保護膜層的厚度為100～150nm。

5.一種有機電致發光器件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在陽極基板上制備功能層、發光層和金屬陰極；

通過真空蒸鍍的方式在所述金屬陰極表面蒸鍍保護膜層，真空度為8×10^-5～3×10^-5Pa，蒸發速度為

采用真空磁控濺射鍍膜儀，依次通過反應式濺射與非反應式濺射的方式交替在保護膜層上濺射多層材質相同的膜層形成無機材料膜層，所述無機材料膜層的材質為SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、MgO、HfO₂、SiN或Si₃N₄；

在無機材料膜層表面設置負載有金屬鋁或金屬銀的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜層形成封裝層，在聚對苯二甲酸乙二醇酯膜層邊緣涂布紫外線膠，由紫外線固化的方式干燥硬化所述紫外線膠，密封形成封閉空間，將所述功能層、發光層和金屬陰極容置在所述封閉空間內，形成有機電致發光器件。

6.如權利要求5所述的有機電致發光器件的制備方法，其特征在于，反應式濺射步驟包括設置真空磁控濺射鍍膜儀本底真空度為1×10^-5～1×10^-4Pa，以Si、Al、Ti、Zr、Mg或Hf為靶材，向裝有所述靶材的真空磁控濺射鍍膜儀中通入工作氣氛，所述工作氣氛為反應氣氛和氬氣的混合氣，所述反應氣氛包括氧氣或氮氣，濺射功率為300W～500W，氬氣氣體流量為15sccm～35sccm，反應氣氛流量為0.15sccm～6.2sccm，壓強為1Pa～8Pa。

7.如權利要求6所述的有機電致發光器件的制備方法，其特征在于，所述反應式濺射方式中反應氣氛占工作氣氛總體積的1％～15％。

8.如權利要求5所述的有機電致發光器件的制備方法，其特征在于，非反應式濺射方式的步驟包括包括設置真空磁控濺射鍍膜儀本底真空度為1×10^-5Pa～1×10^-4Pa，以SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、MgO、HfO₂、SiN或Si₃N₄為靶材，向裝有所述靶材的真空磁控濺射鍍膜儀中通入工作氣氛，所述工作氣氛為氬氣，濺射功率為100W～400W，氬氣氣體流量為10sccm～20sccm，壓強為0.2Pa～5Pa。

9.如權利要求5所述的有機電致發光器件的制備方法，其特征在于，所述無機材料膜層的厚度為50～200nm，所述保護膜層的厚度為100～150nm。

10.如權利要求5所述的有機電致發光器件的制備方法，其特征在于，所述保護膜層的材質為酞菁銅、N，N’-(1-萘基)-N，N’-二苯基-4，4’-聯苯二胺、八羥基喹啉鋁、氧化硅、氟化鎂或硫化鋅。