[發(fā)明專利]非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210161364.9
• 申請(qǐng)日: 2012-05-23
• 公開（公告）號(hào): CN102677011A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 文曉斌;欒亞
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 文曉斌
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/54;C23C14/52
• 代理公司: 北京聯(lián)創(chuàng)佳為專利事務(wù)所(普通合伙) 11362
• 代理人: 郭防

1.一種非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，包括真空腔（1）和控制柜（3），其特征在于：真空腔（1）下方設(shè)有真空控制柜（2），控制柜（3）上設(shè)有手動(dòng)操作界面（4）和全自動(dòng)操作界面（5），真空腔（1）上設(shè)有側(cè)開式爐門（23），真空控制柜（2）后方設(shè)有氬氣瓶（8）和氮?dú)馄浚?），真空控制柜（2）后面設(shè)有氣體壓力表（10），還內(nèi)設(shè)有氣體流量反饋系統(tǒng)（16）與氣體壓力表（10）相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：真空控制柜（2）上設(shè)有惰性氣體流量計(jì)（11）和單色儀（6），真空腔（1）上方設(shè)有真空計(jì)（7）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：手動(dòng)操作界面（4）上設(shè)有真空議（12）、氣體流量控制器（13）、反映氣體控制器（14）、手動(dòng)與自動(dòng)切換開關(guān)（15）和偏壓檢測(cè)器（16）。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：氣體流量反饋系統(tǒng)（17）包括光譜儀（18）、分光計(jì)（19）和光譜監(jiān)視器（20），光譜儀（18）設(shè)于真空腔（1）內(nèi)，光譜儀（18）與分光計(jì)（19）相連，分光計(jì)（19）與光譜監(jiān)視器（20）相連，光譜監(jiān)視器（20）與氣體流量控制器（13）相連。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：真空腔（1）內(nèi)真空度為10-1Pa～10-2Pa。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：側(cè)開式爐門（21）外設(shè)有圓盤把手（22）。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：圓盤把手上（22）上設(shè)有鎖緊把（23）和觀察窗（24）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：真空腔（1）內(nèi)設(shè)有支撐平臺(tái)（27），支撐平臺(tái)上方設(shè)有工作架（28），支撐平臺(tái)（27）下方設(shè)有滑動(dòng)軌道臺(tái)（25），滑動(dòng)導(dǎo)軌臺(tái)（25）下方設(shè)有加熱管（26）。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：側(cè)開式爐門（23）處設(shè)有靶材（32），靶材（32）上設(shè)有銷釘（29）、靶材把手（30）和冷卻水管（31）。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述非平衡閉合場磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備，其特征在于：真空控制柜（2）包括擴(kuò)散泵、羅茨泵和機(jī)械泵。