[發(fā)明專利]基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)及預(yù)對準(zhǔn)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210159466.7
• 申請日: 2012-05-22
• 公開（公告）號: CN103425005A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐文力;王海江;王麗
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，包括：

光源單元，用于為所述系統(tǒng)提供預(yù)對準(zhǔn)光束；

至少一光源內(nèi)調(diào)制單元，用于調(diào)制所述對準(zhǔn)光束；

掩模板及位于所述掩模板上的標(biāo)記；

一四象限傳感器單元，用于接收所述調(diào)制后對準(zhǔn)光束照射所述標(biāo)記后的光強(qiáng)信號；

一信號采集調(diào)理解調(diào)單元，用于采集所述光強(qiáng)信號；

一掩模板運(yùn)動(dòng)及控制系統(tǒng)，根據(jù)所述光強(qiáng)信號調(diào)整所述掩模板的位置。

2.如權(quán)利要求1所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述光源單元包括兩個(gè)光源，所述光源為單色發(fā)光二極管。

3.如權(quán)利要求1所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模板不透光，所述標(biāo)記透光。

4.如權(quán)利要求1所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述光源內(nèi)調(diào)制單元由光源驅(qū)動(dòng)及調(diào)制電路組成。

5.如權(quán)利要求4所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述光源內(nèi)調(diào)制單元的調(diào)制電路包括一調(diào)制信號與該調(diào)制信號串聯(lián)的一電容、電感和偏置電流。

6.如權(quán)利要求5所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述偏置電流略低于所述光源模塊的光源的閾值電流。

7.如權(quán)利要求1所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述信號采集調(diào)理解調(diào)單元包括電流轉(zhuǎn)電壓模塊、模擬帶通濾波及信號放大模塊、信號解調(diào)模塊、濾波模塊以及歸一化模塊。

8.如權(quán)利要求7所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述歸一化模塊包括兩個(gè)加法器以及一個(gè)減法器，所述加法器用于將信號疊加，所述減法器用于實(shí)現(xiàn)信號歸一化處理。

9.如權(quán)利要求1所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模板運(yùn)動(dòng)及控制系統(tǒng)包括板叉、板叉?zhèn)鲃?dòng)系統(tǒng)以及板叉運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)。

10.如權(quán)利要求9所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)系統(tǒng)，其特征在于，所述板叉?zhèn)鲃?dòng)系統(tǒng)以及板叉運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)包括x、y向精密絲杠及導(dǎo)軌，Z向升降平臺(tái)，Rz向轉(zhuǎn)臺(tái)，x、y向絕對值編碼器，x、y?、Z、Rz?向驅(qū)動(dòng)電機(jī)及其驅(qū)動(dòng)器，運(yùn)動(dòng)控制器，所述掩模板吸附于所述板叉上，所述板叉在所述運(yùn)動(dòng)控制器控制下，經(jīng)所述x?、?y?向驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)沿?x?、?y?向精密導(dǎo)軌平移運(yùn)動(dòng)，以及在Z向升降平臺(tái)上升降運(yùn)動(dòng)，以及沿Rz向旋轉(zhuǎn)。

11.一種基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)方法，其特征在于，包括：對光源的出射光束進(jìn)行調(diào)制，利用所述調(diào)制光束照射位于掩模板上的標(biāo)記，接收所述調(diào)制后對準(zhǔn)光束照射所述標(biāo)記后的光強(qiáng)信號，采集所述光強(qiáng)信號并進(jìn)行調(diào)理解調(diào)，根據(jù)所述調(diào)理解調(diào)后的光強(qiáng)信號調(diào)整所述掩模板的位置。

12.如權(quán)利要求11所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)方法，其特征在于，所述調(diào)理解調(diào)的步驟包括：電流轉(zhuǎn)電壓、模擬帶通濾波及信號放大、信號解調(diào)、濾波以及歸一化處理。

13.如權(quán)利要求12所述的基于光源調(diào)制的掩模預(yù)對準(zhǔn)方法，其特征在于，所述歸一化處理包括將所述光強(qiáng)信號進(jìn)行加法減法運(yùn)算后歸一化。