[發明專利]立體光掩模及其制造方法以及立體表面圖案化制作方法

無效

• 申請號: 201210158514.0
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN103424992A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 許馨卉;張勝杰;黃寶毅
• 申請（專利權）人: 啟碁科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/76
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種立體光掩模，供對一物件曝光時使用，其中該物件具有一立體曝光面，該立體光掩模包含：

立體圖案面，具有固定且與該立體曝光面互補的立體形狀，以與該立體曝光面相嵌合；以及

圖案單元，形成于該立體圖案面。

2.如權利要求1所述的立體光掩模，其中該立體光掩模形成一凹形半開放空間，該立體圖案面是該凹形半開放空間的內面。

3.如權利要求1所述的立體光掩模，其中該立體光掩模是不透光材質，該圖案單元形成于該立體圖案面的鏤空部。

4.如權利要求2所述的立體光掩模，其中該圖案單元為開口漸窄的鏤空部，且其側壁與立體圖案面的法線夾15°以上。

5.如權利要求1所述的立體光掩模，其中該立體光掩模是透光材質，該立體圖案面的表面進一步覆蓋一不透光層，該圖案單元形成于該不透光層的鏤空部。

6.一種立體曝光治具，供對一物件曝光時使用，其中該物件具有一立體曝光面，該立體曝光治具包含：

如權利要求1到5任一所述的立體光掩模；以及

治具下蓋，可與該立體光掩模共同形成一容置空間容置該物件，并限制該物件的位移，其中當該物件位于該容置空間，該立體圖案面與該立體曝光面相嵌合。

7.一種立體光掩模制造方法，包含：

步驟A1：形成一具有一立體圖案面的立體光掩模，該立體圖案面具有固定且與該立體曝光面互補的立體形狀，并可與該立體曝光面相嵌合；以及

步驟A2：于該立體圖案面形成一圖案單元。

8.如權利要求7所述的立體光掩模，其中步驟A1包含以注塑成型方式以不透光材質形成該立體光掩模，步驟A2包含在步驟A1進行的同時以在該立體圖案面形成鏤空部的方式形成該圖案單元。

9.如權利要求7所述的立體光掩模，其中步驟A1包含以注塑成型方式以透光材質形成該立體光掩模，步驟A2包含：

步驟A2-1：于該立體圖案面的表面進一步覆蓋一不透光層；以及

步驟A2-2：以在該不透光層形成鏤空部的方式形成該圖案單元。

10.如權利要求9所述的立體光掩模，其中步驟A2-2包含使用激光雕刻。

11.如權利要求7所述的立體光掩模，其中步驟A1包含以注塑成型方式以透光材質形成該立體光掩模，步驟A2包含以在該立體圖案面形成不透光部的方式形成該圖案單元。

12.一種立體表面圖案化制作方法，包含：

步驟B1：提供一物件，其中該物件具有一立體曝光面，該立體曝光面覆蓋有一光致抗蝕劑層；

步驟B2：提供如權利要求1到5任一項所述的該立體光掩模；

步驟B3：將該立體光掩模設置于該光致抗蝕劑層上，且使該立體圖案面與該立體曝光面實質上相嵌合；以及

步驟B4：使用該立體光掩模，對該光致抗蝕劑層進行曝光。

13.如權利要求12所述的立體表面圖案化制作工藝方法，其中步驟B3包含使該立體圖案面貼合于該光致抗蝕劑層。

14.如權利要求12所述的立體表面圖案化制作方法，其中步驟B3包含使該立體圖案面與該光致抗蝕劑層間具有一等間隔的間隙。

15.如權利要求12所述的立體表面圖案化制作方法，進一步包含在步驟B4后進行：

步驟B5：對該光致抗蝕劑層進行顯影，以形成一圖案化保護層。

16.一種立體表面圖案化制作方法，包含：

步驟C1：提供一物件，其中該物件具有一立體曝光面，該立體曝光面覆蓋有一光致抗蝕劑層；

步驟C2：提供如權利要求6所述的該立體曝光治具；

步驟C3：將該物件設置于該容置空間中，且使該立體圖案面與該立體曝光面實質上相嵌合；以及

步驟C4：使用該立體光掩模，對該光致抗蝕劑層進行曝光。

17.如權利要求16所述的立體表面圖案化制作方法，進一步包含在步驟C4后進行：

步驟C5：對該光致抗蝕劑層進行顯影，以形成一圖案化保護層。