[發明專利]濾波范圍430～630nm的無摻雜層光子晶體光學濾波器及其制作方法

無效

• 申請號: 201210157929.6
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN102645695A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 李萍;胡志剛;雷萬軍;楊曉利;宋霄薇;喬曉嵐;婁麗敏;張瑞
• 申請（專利權）人: 河南科技大學
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120
• 代理人: 羅民健

1.濾波范圍430~630nm的無摻雜層光子晶體光學濾波器，其特征在于：濾波器包括光子晶體層（1）和鏡頭玻璃（2），光晶晶體層（1）設置在鏡頭玻璃（2）表面，光子晶體層（1）由10層A介質層和10層B介質層相互交替疊加構成（AB）₅（BA）₅型復合結構，所述的A為砷化鎵,B為二氧化硅,其中（AB）₅表示5層A介質和B介質交替疊加構成的復合介質層，其中A介質層的厚度為38.118nm，B介質層的厚度為59.9nm，該復合介質層設置在光子晶體層（1）的內側，并與鏡頭玻璃連接；其中（AB）₅表示5層A介質和B介質交替疊加構成的復合介質層，其中A介質層的厚度為38.118nm，B介質層的厚度為59.9nm，該復合介質層設置在光子晶體層（2）外側。

2.如權利要求1所述的濾波范圍430~630nm的無摻雜層光子晶體光學濾波器，其特征在于：所述的A介質層的折射率為????????????????????????????????????????????????，B介質層的折射率為，A介質層的厚度為,B介質層的厚度為，中心波長取532nm。

3.如權利要求1所述的濾波范圍430~630nm的無摻雜層光子晶體光學濾波器的制作方法，其特征在于：

步驟一、取一個鏡頭玻璃作為基板，將基板雙面拋光，備用；

步驟二、將加工好的基板表面進行清潔化處理，采用酸性清洗液和去離子水分別清洗基板，然后將基板置于熱板上烘干，溫度65°，時間10分鐘；

步驟三、將基板放入真空鍍膜機中，在其一個表面上進行A介質的鍍膜，砷化鎵折射率，中心波長取532nm時，其鍍膜厚度為，即38.118nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘，然后在基板鍍有A介質膜層的表面進行B介質的鍍膜，二氧化硅的折射率，中心波長取532nm時，其鍍膜厚度為，即59.9nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；

步驟四、按照步驟三的方法交替進行A介質和B介質鍍膜，直至鍍好4層A介質膜層和4層B介質膜層，在基板上形成結構為的光子晶體復合鍍膜層；

步驟五、在光子晶體結構已經鍍膜為的基板結構上繼續進行A介質砷化鎵的鍍膜，厚度為38.118nm，干燥冷卻30分鐘，在基板上形成結構為的光子晶體復合鍍膜層；

步驟六、在基板上光子晶體結構已經鍍膜為的結構上進行B介質二氧化硅的鍍膜，厚度為119.8nm，在基板上形成結構為的光子晶體復合鍍膜層；

步驟七、按照步驟三的方法交替進行A介質和B介質鍍膜，直至鍍好5層A介質膜層和4層B介質膜層，在基板上形成結構為的光子晶體復合鍍膜層，制得表面設有光子晶體結構的濾波器。