[發(fā)明專利]一種利用旋轉(zhuǎn)涂覆制備納米CdS/PVA薄膜復(fù)合材料的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210157023.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103419458A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊桂生;方永煒;孫利明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥杰事杰新材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B32B37/02 | 分類號(hào): | B32B37/02;B32B27/06;B32B27/18;B32B27/30 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 吳林松 |
| 地址: | 230601 安徽省合*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 旋轉(zhuǎn) 制備 納米 cds pva 薄膜 復(fù)合材料 方法 | ||
1.一種納米CdS/PVA薄膜復(fù)合材料的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)將干燥的玻片浸入鎘鹽的聚乙烯醇溶液中,然后離心,在玻片上形成均勻的Cd(NO3)2/PVA聚合物薄膜,靜置;
(2)將步驟(1)制得的玻片浸入到硫化物的溶液中,然后離心,靜置;
(3)將步驟(2)制得的玻片浸入二次蒸餾水中,制得納米CdS,浸置,然后取出離心,靜置;
(4)重復(fù)步驟(1)~(3)制得多層膜;最終得到納米CdS/PVA薄膜復(fù)合材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的納米CdS/PVA薄膜的厚度為0.01-1mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(1)鎘鹽為Cd(NO3)2或CdCl2,其中Cd2+的濃度為0.2×10-3-0.8×10-3mol/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(1)中離心機(jī)的轉(zhuǎn)速為3000-3500r/min,離心時(shí)間20-30s,離心完畢后豎直靜置20-30min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(2)中的硫化物為Na2S或K2S,其中S2-的濃度為1×10-3-3×10-3mol/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(2)中離心機(jī)的轉(zhuǎn)速為2000-3000r/min旋轉(zhuǎn)20-30s,甩后豎直放置,靜置30-50min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(3)中離心機(jī)的轉(zhuǎn)速為2000-3000r/min旋轉(zhuǎn)20-30s,甩后豎直放置,靜置50-80min;浸置的時(shí)間為20-30s。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(3)中制得的納米CdS粒徑為5-20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(4)中,步驟(1)~(3)的重復(fù)次數(shù)為20-100次。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述的步驟(1)中,玻片浸入鎘鹽的聚乙烯醇溶液中的時(shí)間為1~10min;
或所述的步驟(2)中,玻片浸入到硫化物的溶液的時(shí)間為5~10min。
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