[發(fā)明專利]顯影輥、顯影裝置、處理盒以及成像設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210156869.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102789158A | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 寺坂巧;小島敏男;肥塚恭太;神谷紀(jì)行;大澤正幸;阿部廣也 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社理光 |
| 主分類號(hào): | G03G15/08 | 分類號(hào): | G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 趙蓉民 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 裝置 處理 以及 成像 設(shè)備 | ||
1.一種顯影輥,其包括:
磁輥;和
其內(nèi)部包括所述磁輥的可旋轉(zhuǎn)地支撐的顯影套筒,其中
所述顯影套筒以圓柱形形狀形成并且構(gòu)造成使得所述圓柱形的軸心與所述顯影套筒的旋轉(zhuǎn)軸線不一致,
所述顯影套筒包括外表面,該外表面在平面圖中具有許多圓形或橢圓形凹陷,該凹陷以一定間隔規(guī)則地設(shè)置,并且
設(shè)置在所述外表面靠近所述旋轉(zhuǎn)軸線的一部分中的所述凹陷的深度大于設(shè)置在所述外表面遠(yuǎn)離所述旋轉(zhuǎn)軸線的一部分中的所述凹陷的深度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中所述凹陷沿著所述顯影套筒的圓周方向包括V形形狀截面,并且所述凹陷沿著所述顯影套筒的縱向包括圓弧形形狀截面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中所述凹陷沿著所述顯影套筒的圓周方向包括圓弧形形狀截面,并且所述凹陷沿著所述顯影套筒的縱向包括圓弧形形狀截面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任何一個(gè)所述的顯影輥,其中沿著所述顯影套筒的圓周方向彼此相鄰的凹陷沿著所述顯影套筒的縱向被排列在相互不同的位置中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯影輥,其中所述凹陷螺旋地排列在所述外表面上。
6.一種包括顯影輥的顯影裝置,該顯影輥包括顯影套筒,其中所述顯影輥由根據(jù)權(quán)利要求1的顯影輥構(gòu)成。
7.根據(jù)利要求6所述的顯影裝置,其中所述顯影套筒的所述外表面在沿著一個(gè)方向旋轉(zhuǎn)時(shí)被磨削,并且所述顯影輥被設(shè)置成沿著所述一個(gè)方向旋轉(zhuǎn)所述顯影套筒。
8.一種包括顯影裝置的處理盒,其中所述顯影裝置由根據(jù)權(quán)利要求6或7的顯影裝置構(gòu)成。
9.一種成像設(shè)備,其包括:
感光器;
構(gòu)造成為所述感光器的表面充電的充電裝置;
構(gòu)造成在所述感光器的充電的表面上形成潛像的曝光裝置;和
構(gòu)造成在所述感光器的表面上顯影所述潛像的顯影裝置,其中
所述顯影裝置由根據(jù)權(quán)利要求6或7的顯影裝置構(gòu)成。
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G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
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- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
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