[發(fā)明專利]真空吸盤式對位系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210154719.1 | 申請日: | 2012-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN102683505A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭業(yè)祥;楊順先;鄧小明;劉惠森 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞宏威數(shù)碼機械有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/20 | 分類號: | H01L31/20;H01L21/68 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 張艷美;郝傳鑫 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市南城*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 吸盤 對位 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種對位系統(tǒng),尤其涉及一種對非接觸的兩工件進(jìn)行對位的真空吸盤式對位系統(tǒng)。
背景技術(shù)
隨著人們對能源的需求量日益增大,太陽能電池作為新興的環(huán)保資源,其應(yīng)用越來越廣泛,相應(yīng)地,太陽能電池制造產(chǎn)業(yè)也引起廣闊的應(yīng)用前景而不斷發(fā)展壯大。太陽電池可以使用玻璃、塑料、陶瓷、石墨,金屬片等不同材料當(dāng)基板來制造,形成可產(chǎn)生電壓的薄膜厚度僅需數(shù)微米,目前,太陽能電池分為晶體硅太陽能電池和非晶硅太陽能電池。
基于晶體硅(單晶硅和多晶硅)的太陽能電池由于發(fā)展歷史較早且技術(shù)比較成熟,在裝機容量一直占據(jù)領(lǐng)先地位。盡管技術(shù)進(jìn)步和市場擴大使其成本不斷下降,但由于材料和工藝的限制,晶體硅太陽能電池進(jìn)一步降低成本的空間相當(dāng)有限,因此第一代太陽能電池很難承擔(dān)太陽能光伏發(fā)電大比例進(jìn)入人類能源結(jié)構(gòu)并成為基礎(chǔ)能源的組成部分的歷史使命,而非晶硅太陽能電池益發(fā)得到世界各國的重視,技術(shù)日臻成熟,光電轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性不斷提高,集成型非晶硅太陽能電池的激光切割的使用有效面積達(dá)90%以上,目前大面積大量生產(chǎn)的硅薄膜太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率為5%-8%。
非晶硅太陽能電池一般采用等離子增強型化學(xué)氣相沉積(PECVD,PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)方法使高純硅烷等氣體分解沉積而成的。此種制作工藝,可以在生產(chǎn)中連續(xù)在多個真空沉積室完成,以實現(xiàn)大批量生產(chǎn)。由于沉積分解溫度低,且可在玻璃、不銹鋼板、陶瓷板、柔性塑料片上沉積薄膜,易于大面積化生產(chǎn),成本較低。以在玻璃基板上制備的非晶硅基太陽能電池為例,其首先在玻璃(glass)襯底上沉積透明導(dǎo)電膜(TCO),然后依次用等離子體反應(yīng)沉積p型、i型、n型三層a-Si,接著再蒸鍍金屬電極鋁(Al),非晶硅(a-Si)太陽電池是光從玻璃面入射,電池電流從透明導(dǎo)電膜和鋁引出,其結(jié)構(gòu)可表示為glass/TCO/pin/Al。
在非晶硅太陽能電池板制備過程中,常需要先對其玻璃基板進(jìn)行精確對位,之后才能進(jìn)行相應(yīng)的操作,傳統(tǒng)的做法是利用機械手將玻璃基板及其他物件進(jìn)行裝夾,再利用機械手進(jìn)行對位,或?qū)⒉AЩ逯苯淤N合于需對位的物件上使兩者接觸以進(jìn)行對位,上述方式中,對玻璃基板進(jìn)行接觸式對位及進(jìn)行裝夾,可能會對玻璃基板造成污染或損傷,從而影響非晶硅太陽能電池板的生產(chǎn)精度,另外,當(dāng)需要對應(yīng)的玻璃基板與其他物件的長寬高都不相同時,采用上述方法進(jìn)行對位的精度不夠高。
因此,有必要提供一種可實現(xiàn)對非接觸的兩工件進(jìn)行精確對位的裝置來解決現(xiàn)有技術(shù)的不足。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種可實現(xiàn)對非接觸的兩工件進(jìn)行精確對位的真空吸盤式對位系統(tǒng)。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案為:提供一種真空吸盤式對位系統(tǒng),適用于對非接觸的兩工件進(jìn)行對位,其包括對位裝置、固定平臺裝置、旋轉(zhuǎn)平臺裝置、對位調(diào)節(jié)裝置及底座,所述對位調(diào)節(jié)裝置連接于所述底座上,所述旋轉(zhuǎn)平臺裝置連接于所述對位調(diào)節(jié)裝置的上方,所述固定平臺裝置設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)平臺裝置的一側(cè),并與所述旋轉(zhuǎn)平臺裝置相對應(yīng),所述對位裝置設(shè)置于所述固定平臺裝置的上方,且所述固定平臺裝置、旋轉(zhuǎn)平臺裝置上均開設(shè)有氣孔并與抽真空系統(tǒng)連接,其中,所述對位調(diào)節(jié)裝置包括X軸調(diào)節(jié)機構(gòu)、Y軸調(diào)節(jié)機構(gòu)及Z軸調(diào)節(jié)機構(gòu),所述旋轉(zhuǎn)平臺裝置滑動地連接于所述X軸調(diào)節(jié)機構(gòu)的上端,并可沿X軸方向水平滑動,所述X軸調(diào)節(jié)機構(gòu)的下端滑動地連接于所述Y軸調(diào)節(jié)機構(gòu)的上端,并可沿Y軸方向水平滑動,所述Y軸調(diào)節(jié)機構(gòu)的下端固定于所述Z軸調(diào)節(jié)機構(gòu)上,且所述Z軸調(diào)節(jié)機構(gòu)活動地連接于所述底座上,并可相對所述底座沿Z軸方向運動。
較佳地,所述旋轉(zhuǎn)平臺裝置包括旋轉(zhuǎn)固定座、旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構(gòu)、活動平臺及第一真空接頭,所述活動平臺上開設(shè)有氣孔,所述第一真空接頭安裝于所述活動平臺的側(cè)部,并與所述活動平臺上開設(shè)的氣孔相連通,所述活動平臺旋轉(zhuǎn)地連接于所述旋轉(zhuǎn)固定座上,所述旋轉(zhuǎn)固定座滑動地連接于所述X軸調(diào)節(jié)機構(gòu)的上端,所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構(gòu)連接于所述旋轉(zhuǎn)固定座的側(cè)部,并與所述活動平臺連接,通過抽真空系統(tǒng)將工件吸附于活動平臺上,實現(xiàn)工件的固定,避免裝夾等給工件帶來的損傷。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





