[發明專利]石墨烯和金屬納米線復合的導電膜、制備方法及其用于制備透明導電膜的用途在審
| 申請號: | 201210153595.5 | 申請日: | 2012-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN103426494A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發明(設計)人: | 李維實;趙福剛 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海有機化學研究所 |
| 主分類號: | H01B1/02 | 分類號: | H01B1/02;H01B1/04;H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 鄔震中 |
| 地址: | 200032 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 金屬 納米 復合 導電 制備 方法 及其 用于 透明 用途 | ||
1.一種復合導電膜,其特征是由石墨烯與金屬納米線溶液復合而成,所述的石墨烯和金屬納米線的重量比為1:0.001~1000。
2.根據權利要求1所述的復合導電膜的材料,其特征是石墨烯和金屬納米線的重量比為1:0.01~100。
3.根據權利要求1所述的復合導電膜的材料,其特征是所述的金屬納米線指銅、銀或金的金屬納米線。
4.一種根據權利要求1所述的復合導電膜的制備方法,其特征是通過下述步驟獲得:
(1)將石墨烯分散于溶劑中。
(2)將金屬納米線分散于溶劑中。
(3)混合步驟(1)的石墨烯溶液和(2)的金屬納米線溶液,石墨烯和金屬納米線固含量重量比為1:0.001~1000;優選比例為1:0.01~100。
(4)微孔濾膜下過濾步驟(3)的溶液。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征是步驟(1)或(2)中所述的溶劑為水、醇類、酮類、酰胺類、酯類、烷烴類、芳烴類、鹵代烴類或鹵代芳烴類。
6.根據權利要求4所述的方法,其特征是步驟(3)中所述的石墨烯和金屬納米線固含量重量比為1:0.01~100。
7.根據權利要求4所述的方法,其特征是步驟(4)中所述的微孔濾膜為氧化鋁膜、纖維素酯膜、尼龍膜、聚醚砜膜、聚碳酸酯膜、聚四氟乙烯膜或聚偏氟乙烯膜,微孔直徑為0.2~0.8μm。
8.一種如權利要求1所述的復合導電膜用于制備透明導電膜。
9.根據權利要求8所述的復合導電膜的用途,其特征是將權利要求1獲得的濾膜材料支撐的復合導電膜過濾物經過蝕刻,蝕掉微孔濾膜后,轉移至玻璃或聚合物的透明基底上。
10.根據權利要求9所述的用途,其特征是所述的透明聚合物包括聚烯烴、聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚芳醚酮、聚鹵代烯烴、聚丙烯酸酯類、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚砜類、不飽和樹脂或聚胺酯塑料。
11.根據權利要求10所述的用途,其特征是所述的透明聚合物為對苯二甲酸乙二醇酯、無色透明聚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚乙烯,聚丙烯。
12.根據權利要求8的用途,其特征是所述的蝕刻和轉移方法,根據權利要求7所述的微孔濾膜的不同而不同:
(1)微孔濾膜為氧化鋁濾膜時,將氧化鋁膜支撐的復合導電膜小心置于堿液中,待濾膜溶解后,將漂浮在溶液中復合導電膜轉移至玻璃或透明聚合物基底上,得到透明導電膜;所述的堿液為氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液,濃度范圍0.0001~10M;
(2)微孔濾膜為無氟聚合物濾膜時,將聚合物濾膜支撐的復合導電材料導電膜面鋪展在玻璃或透明聚合物基底上,置于溶劑蒸汽中,待上層的濾膜溶解蝕刻后,溶劑小心洗滌透明導電膜;所述的溶劑優選丙酮或二氯甲烷;
(3)微孔濾膜為含氟聚合物時,將導電膜面鋪展在選用的透明基底上,置于醇類溶劑蒸汽中,待膜層充分濕潤后,撕去濾膜,得到透明導電膜;所述的醇類溶劑優選甲醇或乙醇。
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