[發(fā)明專利]背照式圖像傳感器的像素有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210151627.8 | 申請(qǐng)日: | 2008-06-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102709299A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樸成炯;李柱日 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 智慧投資II有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 邱軍 |
| 地址: | 美國(guó)華*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 背照式 圖像傳感器 像素 | ||
1.一種背照式圖像傳感器的像素,所述像素包括:
襯底,具有正上表面和背側(cè);
光電二極管,配置為響應(yīng)從所述襯底的所述背側(cè)接收的光以產(chǎn)生光電荷,其中所述光電二極管形成在所述襯底的所述正上表面附近;以及
反射柵極,設(shè)置在所述光電二極管之上,并且配置為將從所述襯底的所述背側(cè)接收的光反射到所述光電二極管的前側(cè),其中所述反射柵極還配置為接收偏壓信號(hào),以控制所述光電二極管的耗盡區(qū)的范圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素,還包括轉(zhuǎn)移晶體管,所述轉(zhuǎn)移晶體管配置為將所述光電荷轉(zhuǎn)移到浮置擴(kuò)散節(jié)點(diǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素,其中所述轉(zhuǎn)移晶體管包括與所述反射柵極間隔開的轉(zhuǎn)移柵極,并且所述轉(zhuǎn)移柵極和所述反射柵極設(shè)置為與所述襯底的所述正上表面相距實(shí)質(zhì)上相同的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素,其中所述轉(zhuǎn)移晶體管包括緩沖區(qū)域,所述緩沖區(qū)域形成在所述襯底中并且與所述反射柵極的邊緣垂直地對(duì)準(zhǔn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的像素,其中所述轉(zhuǎn)移柵極的一部分與所述反射柵極重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素,其中所述反射柵極包括堆疊層結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的像素,其中所述堆疊層結(jié)構(gòu)包括:
多晶硅層;以及
金屬層,相鄰于所述多晶硅層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的像素,其中所述金屬層包括硅化鎢層。
9.根據(jù)權(quán)利要去7所述的像素,其中所述金屬層包括鎢。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素,其中所述反射柵極包括單層結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的像素,其中所述單層結(jié)構(gòu)包括金屬硅化物層或者金屬層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





