[發明專利]一種射頻收發前端模塊及其制備方法有效
| 申請號: | 201210151162.6 | 申請日: | 2012-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN102709264A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 楊磊;黃貞松 | 申請(專利權)人: | 南京國博電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/488 | 分類號: | H01L23/488;H01L21/58;H01L21/60;H04B1/38 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 許方 |
| 地址: | 210016 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 射頻 收發 前端 模塊 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種基于QFN8×8-16L標準封裝的極大功率、極低噪聲射頻收發前端模塊及其制備方法,屬于移動通信技術領域。
背景技術
第三代移動通信和新一代寬帶移動通信的TD-SCDMA和WIMAX系統、以及TD-LTE系統均采用TDD模式,所以在基站系統中,發射通道功放(PA)到天線(ANT)和接收通道到天線(ANT)間需要一個大功率開關SW來控制收發切換。
發明專利《超大功率、超低噪聲射頻收發前端模塊及其制備方法》中,提到了一種大功率射頻收發前端模塊,它只滿足一定的功率條件下(功率不大于60W)的基站應用。而現在及未來的TDD模式系統基站對功率有更高要求(功率要求100W以上),并且對系統的小型化有更高要求。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提出一種適用于3G的TD-SCDMA和WIMAX及4G的TD-LTE等TDD系統基站整機用的QFN?8×8-16L標準封裝的極大功率、極低噪聲射頻收發前端模塊及其制備方法,目的之一旨在滿足TDD系統基站功放極大功率切換控制的工作條件,在射頻功率大于120W的條件下,能安全可靠工作,并且保證整機的接收通道具有極低的噪聲系數和更高的接收靈敏度。目的之二旨在提高接收前端的集成度,在QFN8X8-16L標準封裝中集成功率開關和低噪放芯片,降低成本,優化性能。
本發明為解決上述技術問題采用以下技術方案:
一種射頻收發前端模塊,該模塊采用QFN?8×8-16L標準封裝,在QFN8×8-16L標準封裝引線框中心的金屬襯底上設置有一個矩形的氮化鋁基板、以及一個砷化鎵低噪放芯片,所述砷化鎵低噪放芯片分別與QFN?8×8-16L標準封裝的相應引腳連接;所述氮化鋁基板表面上分別設置有五個相互隔離的金屬涂覆層區域,其中第一金屬涂覆層區域橫穿氮化鋁基板的中部,并且該金屬涂覆層上均勻分布有N個接地孔,N為自然數;第二至第五金屬涂覆層區域分別位于氮化鋁基板的四端;
在第一金屬涂覆層區域上的一端設置有第一芯片電容,在第二、第三金屬涂覆層區域中分別設置有第一、第二PIN二極管芯片,在第四金屬涂覆層區域中設置有第三PIN二極管芯片以及第二芯片電容,在第五金屬涂覆層區域中設置有第四PIN二極管芯片,由此共同構成射頻收發前端模塊的收發開關切換電路;其中:
所述第一、第二PIN二極管芯片構成該射頻收發前端模塊的發射通道;其中,所述第一PIN二極管芯片與QFN?8×8-16L標準封裝的第1引腳連接,所述第二PIN二極管芯片與第一PIN二極管芯片以及QFN?8×8-16L標準封裝的第15引腳連接;?
所述第三、第四PIN二極管,第一、第二芯片電容,以及砷化鎵低噪放芯片構成該射頻收發前端模塊的接收通道;其中,所述第三PIN二極管分別與QFN?8×8-16L標準封裝的第1引腳、第四PIN二極管、第二芯片電容、以及QFN?8×8-16L標準封裝的第3引腳連接;所述第四PIN二極管分別與第一芯片電容、QFN?8×8-16L標準封裝的第14引腳連接;所述第二芯片電容與砷化鎵低噪放芯片的輸入引腳連接。
作為本發明的一種射頻收發前端模塊的優選方案,所述第一、第二PIN二極管芯片的反向耐壓大于300V,結電容小于0.2P,串聯電阻小于0.5歐姆,熱阻小于15度/瓦;所述第三、第四PIN二極管的反向耐壓大于200V,結電容小于0.05P,串聯電阻小于0.5歐姆。
作為本發明的一種射頻收發前端模塊的優選方案,第一、第二芯片電容為單層陶瓷芯片電容。
本發明還提供一種基于該射頻收發前端模塊的制備方法,包括以下步驟:
步驟1、在QFN8×8-16L標準封裝引線框中心金屬襯底上用銀漿粘接氮化鋁基板、砷化鎵低噪放芯片;
步驟2、在氮化鋁基板上設置五個相互隔離的金屬涂覆層區域,其中第一金屬涂覆層區域橫穿氮化鋁基板的中部,并且該金屬涂覆層上均勻分布有N個接地孔,N為自然數;第二至第五金屬涂覆層區域分別位于氮化鋁基板的四端;
步驟3、在氮化鋁基板上的金屬涂覆層區域中分別用銀漿粘接四個PIN二極管芯片以及兩個芯片電容;其中:第一芯片電容粘接在第一金屬涂覆層區域的一端,第一PIN二極管芯片粘接在第二金屬涂覆層區域中,第二PIN二極管芯片粘接在第三金屬涂覆層區域中,第三PIN二極管芯片以及第二芯片電容粘接在第四金屬涂覆層區域中,第四PIN二極管芯片粘接在第五金屬涂覆層區域中;
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