[發(fā)明專利]隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造及其施工方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210150291.3
• 申請日: 2012-05-15
• 公開（公告）號: CN102704509A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張建經(jīng);司長亮;侯甲慶;馮俊德;劉輝
• 申請（專利權(quán)）人: 西南交通大學(xué)
• 主分類號: E02D31/08
• 分類號: E02D31/08
• 代理公司: 成都信博專利代理有限責(zé)任公司 51200
• 代理人: 張澎

1.一種隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造，其特征在于，在構(gòu)筑物底部與地基之間設(shè)置有一旨在增大構(gòu)筑物底部整體性并減小地震中逆斷層錯動產(chǎn)生的豎向位移的復(fù)合緩沖構(gòu)造，所述復(fù)合緩沖構(gòu)造由砂層與平面整體層組成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述之隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造，其特征在于：所述平面整體層為土工格柵，形成砂層-土工格柵-構(gòu)筑物底部之結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述之隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造，其特征在于，所述砂層-土工格柵可單層或多層設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述之隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造，其特征在于，所述平面整體層為混凝土板，形成砂層-混凝土板-構(gòu)筑物底部之結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述之隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造，其特征在于，所述砂層-混凝土板可單層或多層設(shè)置。

6.實現(xiàn)權(quán)利要求1或2或3或4或5所述之隱伏逆斷層上構(gòu)筑物下緩沖層構(gòu)造的施工方法，其特征在于，首先整平地基，然后在基礎(chǔ)上整鋪厚約50cm的砂層并壓實，鋪過砂層后在上面鋪設(shè)一層平面整體層，為了增加砂層的整體性也可以在砂層中增加一層平面整體層，再次壓實后就可以修筑上部的構(gòu)筑物。