[發明專利]一種高耐磨碳化硼涂層及其制備方法有效
| 申請號: | 201210148858.3 | 申請日: | 2012-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN103422048A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發明(設計)人: | 朱慧穎;牛亞然;林初城;黃利平;鄭學斌 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | C23C4/12 | 分類號: | C23C4/12;C23C4/04 |
| 代理公司: | 上海海頌知識產權代理事務所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 何葆芳 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 耐磨 碳化 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種高耐磨碳化硼涂層,其特征在于:所述涂層是由碳化硼硬質相和富鎳連續相組成的B4C-Ni復合涂層,且所述富鎳連續相中含有單質Ni、Ni-B化合物和Ni-C化合物。
2.根據權利要求1所述的高耐磨碳化硼涂層,其特征在于:所述高耐磨碳化硼涂層中的鎳含量為10~20vol%。
3.根據權利要求2所述的高耐磨碳化硼涂層,其特征在于:所述高耐磨碳化硼涂層的厚度為200~500μm。
4.一種權利要求1所述的高耐磨碳化硼涂層的制備方法,其特征在于:采用真空等離子體噴涂技術在金屬基材上噴涂B4C-Ni復合粉體。
5.根據權利要求4所述的高耐磨碳化硼涂層的制備方法,其特征在于:所述的金屬基材為不銹鋼。
6.根據權利要求4所述的高耐磨碳化硼涂層的制備方法,其特征在于,進行真空等離子體噴涂的工藝參數如下:等離子體氣體Ar流量為35~50標準升/分鐘;等離子體氣體H2流量為8~18標準升/分鐘;粉末載氣Ar流量為2~4標準升/分鐘;噴涂距離為120~250毫米;噴涂電流為600~700安培;噴涂壓力為100~700毫巴;送料速率為15~30轉/分鐘。
7.根據權利要求4所述的高耐磨碳化硼涂層的制備方法,其特征在于:所述的B4C-Ni復合粉體采用化學鍍法制備而得。
8.根據權利要求7所述的高耐磨碳化硼涂層的制備方法,其特征在于,采用化學鍍法制備B4C-Ni復合粉體的工藝包括如下步驟:
a)配制化學鍍鎳溶液;
b)加熱上述的化學鍍鎳溶液至83℃,加入碳化硼粉體,攪拌;
c)保溫在85℃進行化學鍍;
d)施鍍1~3小時后,過濾,水洗濾渣至中性,干燥,即得B4C-Ni復合粉體。
9.根據權利要求8所述的高耐磨碳化硼涂層的制備方法,其特征在于:所述的化學鍍鎳溶液是由濃度為0.16mol/L的NiSO4、濃度為0.32mol/L的NaH2PO4、濃度為0.75mol/L的NH4Cl及濃度為0.85mol/L的Na3C6H5O7水溶液組成,化學鍍鎳溶液的pH值為6.5。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





