[發明專利]一種用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液無效
| 申請號： | 201210146859.4 | 申請日： | 2012-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN102703916A | 公開（公告）日： | 2012-10-03 |
| 發明（設計）人： | 楊偉強;徐真真 | 申請（專利權）人： | 晶澳太陽能有限公司 |
| 主分類號： | C23G1/14 | 分類號： | C23G1/14 |
| 代理公司： | 廣州知友專利商標代理有限公司 44104 | 代理人： | 李海波;馬赟齋 |
| 地址： | 055550 河北*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 晶體 太陽能電池 硅片 堿制絨后 清洗 | ||
1.一種用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，由氧化劑、堿和超純水組成，其特征是，所述氧化劑為液體氧化劑，所述的液體氧化劑在清洗液中的質量百分比為3%~20%，所述堿在清洗液中的質量百分比為0.1%~5%。
2.根據權利要求1所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述液體氧化劑在清洗液中的質量百分比為4%~15%，所述堿在清洗液中的質量百分比為0.5%~2.5%。
3.根據權利要求1所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述液體氧化劑在清洗液中的質量百分比為5%~8%，所述堿在清洗液中的質量百分比為0.8?%~1.3%。
4.根據權利要求1或2或3所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述的液體氧化劑是H2O2的水溶液。
5.根據權利要求1或2或3所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述的堿為NaOH或KOH。
6.一種用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，由氧化劑、堿和超純水組成，其特征是，所述氧化劑為固體氧化劑，所述的固體氧化劑在清洗液中的質量百分比為2%~8%，所述堿在清洗液中的質量百分比為0.1%~5%。
7.根據權利要求6所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述固體氧化劑在清洗液中的質量百分比為3%~5%，所述堿在清洗液中的質量百分比為0.5%~2.5%。
8.根據權利要求6所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述固體氧化劑在清洗液中的質量百分比為3.5%~4.5%，所述堿在清洗液中的質量百分比為0.8?%~1.3%。
9.根據權利要求6或7或8所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述的固體氧化劑是(NH4)2S2O8、K2S2O8、Na2S2O8中的一種或幾種的混合。
10.根據權利要求6或7或8所述的用于晶體硅太陽能電池的硅片堿制絨后清洗的清洗液，其特征是，所述的堿為NaOH或KOH。
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