[發(fā)明專利]一種無(wú)掩模數(shù)字投影光刻的圖形拼接方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210145576.8
• 申請(qǐng)日: 2012-05-11
• 公開（公告）號(hào): CN102722085A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱江平;胡松;陳銘勇;唐燕;何渝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G06T7/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 梁愛榮

1.一種無(wú)掩模數(shù)字投影光刻的圖形拼接方法，其特征在于：所述方法包括步驟：

步驟S1：對(duì)待刻蝕圖形進(jìn)行分割，得到分割后的多幀子圖形，且每幀子圖形尺寸相同；

步驟S2：設(shè)置模板尺寸與每幀子圖形尺寸相同；

步驟S3：將分割后的每幀子圖形與所述模板相乘，邊界拼接區(qū)域的灰度值受到調(diào)制，不需要拼接的區(qū)域其灰度值保持原樣，以此用灰度調(diào)制模板調(diào)制邊界拼接區(qū)域的灰度值，獲得調(diào)制后的子圖形；

步驟S4：對(duì)調(diào)制后的子圖形通過數(shù)字微鏡顯示逐幀曝光，實(shí)現(xiàn)數(shù)字微鏡顯示的調(diào)制后的子圖形向基片復(fù)制轉(zhuǎn)移的拼接。

2.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：所述待刻蝕圖形的分割步驟如下：

步驟S11：設(shè)定每幀子圖形的大小為1024×768像素；

步驟S12：設(shè)定每幀子圖形之間的重疊區(qū)域?qū)挾?edge)；

步驟S13：針對(duì)步驟S12中設(shè)定的重疊區(qū)域?qū)挾?edge)，判斷待刻蝕圖形是否能分割為1024×768像素的整數(shù)倍，如果能，則不進(jìn)行邊界填充，則分割結(jié)束；如果不能，則將待刻蝕圖形邊界填充灰度為0使得能被分割成1024×768像素的整數(shù)倍，然后重新分割。

3.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：所述調(diào)制后的子圖形向基片復(fù)制轉(zhuǎn)移的拼接，共有九種邊界拼接情況，需要設(shè)計(jì)九種灰度調(diào)制模板，每個(gè)模板只在其周圍相鄰的重疊邊界區(qū)域設(shè)定漸變灰度值。

4.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：調(diào)制后子圖形的大小為1024×768像素。

5.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：還包括通過計(jì)算機(jī)控制數(shù)字微鏡顯示圖形灰度調(diào)制狀態(tài)，調(diào)制后的單幀子圖形曝光時(shí)，如果調(diào)制后的單幀子圖形不同位置點(diǎn)的灰度值不一樣，則數(shù)字微鏡相應(yīng)位置的調(diào)制狀態(tài)將發(fā)生改變。

6.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：不同的調(diào)制后的子圖形灰度值對(duì)應(yīng)于數(shù)字微鏡的各個(gè)響應(yīng)狀態(tài)，繼而每幀數(shù)字微鏡顯示的調(diào)制后的子圖形對(duì)應(yīng)于基片位置圖形刻寫時(shí)，光刻膠被刻蝕程度與灰度值相對(duì)應(yīng)。

7.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：所述用灰度調(diào)制模板調(diào)制邊界拼接區(qū)域灰度值的步驟包括：對(duì)邊界拼接區(qū)域的灰度值由灰度調(diào)制模板的外側(cè)到內(nèi)側(cè)灰度依次減小。

8.如權(quán)利要求7所述的圖形拼接方法，其特征在于：對(duì)于四次重疊邊界拼接區(qū)域的灰度值設(shè)置有別于兩次重疊的情況，灰度調(diào)制模板的外側(cè)到內(nèi)側(cè)灰度依次減小；數(shù)字微鏡兩次顯示的子圖形拼接后，各邊界拼接區(qū)域的灰度值和與四次重疊后各處的灰度值相等。

9.如權(quán)利要求1所述的圖形拼接方法，其特征在于：在數(shù)字微鏡顯示的調(diào)制后的子圖形的邊界拼接區(qū)域的位置處，經(jīng)灰度調(diào)制模板調(diào)制的線條灰度或者被刻蝕的程度是漸變的，沒有明顯的躍變，從而實(shí)現(xiàn)數(shù)字微鏡顯示的子圖形的拼接，使待刻蝕圖形整體向基片的復(fù)制轉(zhuǎn)移。