[發明專利]選擇性發射極晶體硅太陽電池制造方法無效
| 申請號: | 201210143518.1 | 申請日: | 2012-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN102723401A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發明(設計)人: | 包誕文 | 申請(專利權)人: | 山東天信光伏新能源有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 東營雙橋專利代理有限責任公司 37107 | 代理人: | 王錫洪 |
| 地址: | 257091 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 選擇性 發射極 晶體 太陽電池 制造 方法 | ||
1.一種選擇性發射極晶體硅太陽電池制造方法,包括高濃度摻雜擴散、低濃度摻雜擴散,其特征在于:用含磷摻雜劑漿料在晶體硅片正面絲網印刷,印刷區域略大于電極區域,烘干,然后在POCl3氣氛中進行摻雜擴散,在含磷摻雜劑漿料印刷區域得到高濃度擴散,其余區域得到低濃度擴散,高濃度、低濃度摻雜擴散一次完成。
2.根據權利要求1所述的選擇性發射極晶體硅太陽電池制造方法,其特征在于制作的具體工藝為:
a、表面制備,去除硅片表面損傷,形成減反射表面結構,然后化學清洗;
b、在晶體硅片光照面即正面絲網印刷含磷摻雜劑漿料,印刷區域略大于光照面,即正面電極區域,烘干;
c、擴散制結,在POCl3氣氛中進行摻雜擴散,在含磷摻雜劑漿料印刷區域得到高濃度擴散,其余區域得到低濃度擴散,高濃度、低濃度摻雜擴散一次完成;
d、去除硅片周邊PN結;
e、正表面沉積減反射膜及鈍化;
f、電極制造,用相應的漿料絲網印刷正面、背面電極及背表面場圖案并烘干、高溫燒結形成歐姆接觸。
3.根據權利要求1所述的選擇性發射極晶體硅太陽電池制造方法,其特征在于:所述含磷摻雜劑漿料是指二氧化硅乳膠源。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





