[發(fā)明專利]整理盤、研磨墊整理器及研磨裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210143486.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103386649A | 公開(公告)日: | 2013-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐強(qiáng);李佩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B53/017 | 分類號(hào): | B24B53/017;B24B37/04 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 201203 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 整理 研磨 裝置 | ||
1.一種整理盤,包括整理盤本體,其特征在于,還包括一中心齒輪、三個(gè)研磨盤以及三個(gè)小齒輪,所述整理盤本體具有一內(nèi)齒圈,所述中心齒輪位于所述內(nèi)齒圈內(nèi)并和所述內(nèi)齒圈同心設(shè)置,所述三個(gè)小齒輪均勻分布于所述中心齒輪和所述內(nèi)齒圈組成的區(qū)域內(nèi),且所述三個(gè)小齒輪分別與所述中心齒輪和所述內(nèi)齒圈嚙合,所述研磨盤分別設(shè)置于對(duì)應(yīng)的小齒輪的工作表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的整理盤,其特征在于,所述研磨盤的大小與所述小齒輪的大小相對(duì)應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的整理盤,其特征在于,所述研磨盤的直徑范圍是6~9厘米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的整理盤,其特征在于,所述內(nèi)齒圈的內(nèi)徑是14~18厘米。
5.一種研磨墊整理器,其特征在于,包括驅(qū)動(dòng)馬達(dá)、驅(qū)動(dòng)軸以及如權(quán)利要求1所述的整理盤,所述驅(qū)動(dòng)軸的一端和所述驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接,所述驅(qū)動(dòng)軸的另一端與所述整理盤的中心齒輪固定連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨墊整理器,其特征在于,所述研磨盤的大小與所述小齒輪的大小相對(duì)應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨墊整理器,其特征在于,所述研磨盤的直徑范圍是6~9厘米。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨墊整理器,其特征在于,所述內(nèi)齒圈的內(nèi)徑是14~18厘米。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨墊整理器,其特征在于,還包括一保護(hù)殼,所述保護(hù)殼套設(shè)于所述驅(qū)動(dòng)軸的外側(cè)。
10.一種研磨裝置,包括研磨墊、研磨平臺(tái)、研磨液供應(yīng)管和研磨頭,所述研磨墊鋪設(shè)于所述研磨平臺(tái)上,所述研磨頭和所述研磨液供應(yīng)管分別設(shè)置于所述研磨墊上,其特征在于,包括如權(quán)利按要求5~9中任意一項(xiàng)所述的研磨墊整理器,所述研磨墊整理器設(shè)置于所述研磨墊上。
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