[發(fā)明專利]一種適用于無掩模光刻機的對準方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210143185.2
• 申請日: 2012-05-10
• 公開（公告）號: CN102681369A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李艷麗;胡松;陳銘勇;馮金花
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251
• 代理人: 許玉明;賈玉忠

1.一種適用于無掩模光刻機的對準方法，其特征在于：所述的無掩模光刻機的對準方法是硅片上的標記（6）經(jīng)第一轉(zhuǎn)向棱鏡（1）和第二轉(zhuǎn)向棱鏡（3）轉(zhuǎn)向后通過聚光鏡（4）成像在光電耦合成像器件（5）的成像靶面上，經(jīng)過圖像處理確定采集到的標記相對載物臺（9）的坐標位置一，通過承片臺（7）的旋轉(zhuǎn)和工件臺（8）的移動能夠采集到除標記（6）以外的其他標記并確定其相對載物臺坐標的位置二，由于采集到的標記圖像相對硅片坐標的位置是已知的，能夠建立載物臺坐標系同硅片坐標系之間的變換關(guān)系，應(yīng)用坐標變換公式推導(dǎo)出所放硅片同首次曝光位置的偏移量及旋轉(zhuǎn)角度，通過工件臺平移及載片臺旋轉(zhuǎn)補償實現(xiàn)套刻對準；其具體操作步驟包括：

步驟S1：工件臺平移到一個預(yù)定的標記位置，光電耦合成像器采集第一個對準標記，并計算其相對于載物臺的坐標；

步驟S2：工件臺平移到另一個預(yù)定的標記位置，光電耦合成像器采集第二個對準標記，并計算其相對于載物臺的坐標；

步驟S3：根據(jù)計算求得的兩個對準標記在載物臺中的位置，建立硅片坐標系同載物臺坐標系之間的坐標變換方程，推導(dǎo)出所放硅片同首次曝光位置的偏移量及旋轉(zhuǎn)角度，如果求解失敗，則重復(fù)步驟S1；

步驟S4：應(yīng)用求得的偏移量替換上次求得的偏移量，如果此次為第一次求得，則替換預(yù)設(shè)的偏移量值；

步驟S5：按得到的旋轉(zhuǎn)角度θ轉(zhuǎn)動硅片臺，之后重復(fù)步驟S1，直至旋轉(zhuǎn)角度θ小于設(shè)定的閾值時為止;其中設(shè)定的閾值為系統(tǒng)管理員根據(jù)具體需要設(shè)定的。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于無掩模光刻機的對準方法，其特征在于所述的光電耦合成像器件同載物臺的位置是相對固定的，其中光電耦合成像器件是CCD相機或四象限探測器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于無掩模光刻機的對準方法，其特征在于所述的轉(zhuǎn)向棱鏡為一個或多個，其能夠?qū)⒐杵系膶蕵擞洺上裨诠怆婑詈铣上衿骷稀?/p>

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于無掩模光刻機的的對準方法，其特征在于所述的方法步驟S1中預(yù)定的一個標記位置是由對準標記在硅片坐標系中的坐標位置和硅片的坐標零位同載物臺的坐標零位之間的偏移量所決定的，該對準標記是硅片上的任一個對準標記。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于無掩模光刻機的的對準方法，其特征在于所述的方法步驟S2中預(yù)定的另一標記位置是由對準標記在硅片坐標系中的坐標位置和硅片的坐標零位同載物臺的坐標零位之間的偏移量所決定的，該對準標記是除了步驟S1中選定的對準標記外的任何一個硅片上的對準標記。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于無掩模光刻機的的對準方法，其特征在于所述的方法步驟S5中指定的最小轉(zhuǎn)角是按操作者的要求提供接口，由操作者個人設(shè)定。