[發明專利]一種Nb-W合金及其制備方法無效
| 申請號: | 201210141534.7 | 申請日: | 2012-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN102634712A | 公開(公告)日: | 2012-08-15 |
| 發明(設計)人: | 胡昌義;黎憲寬;蔡宏中;魏燕;陳力;毛傳軍;鄭旭;王云 | 申請(專利權)人: | 貴研鉑業股份有限公司 |
| 主分類號: | C22C27/02 | 分類號: | C22C27/02;C22C1/00;C23C16/01;C23C16/06 |
| 代理公司: | 昆明今威專利商標代理有限公司 53115 | 代理人: | 賽曉剛 |
| 地址: | 650106 云南省昆明市高新技*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 nb 合金 及其 制備 方法 | ||
1.一種Nb-W合金材料,其特征在于:W為固溶強化元素,W含量為0.5-10wt.%,余量為Nb。
2.如權利要求1所述Nb-W合金材料,其特征在于:所述的Nb-W合金具有沿沉積方向的柱狀擇優取向和顯微層狀結構,層狀結構存在同步的成分起伏:層間以Nb為基并分布有NbW固溶體,層內以NbW固溶體為基并分布有Nb原子。
3.如權利要求1所述Nb-W合金材料,其特征在于:所述W含量為9.68wt.%,余量為Nb。
4.一種如權利要求1所述Nb-W合金材料的制備方法,該方法采用化學氣相沉積即CVD方法制備,其特征在于依次包括下列工藝步驟:?
(1)以鉬、石墨或其他高熔點金屬為基體,將基體加工成沉積器件所需要的形狀,并進行表面拋光及清潔處理;
(2)沉積準備:將原料Nb片和W片分別放置于Nb氯化室和W氯化室內,將沉積基體安放于旋轉支撐桿上;將沉積系統密封,并抽成真空狀態,真空度為10-2Torr;
(3)沉積過程:分別將Nb、W以及基體加熱至相應的氯化溫度和沉積溫度,Nb加熱溫度為250-400℃,W的加熱溫度為550-700℃,沉積溫度為900-1400℃,按照設定的流量分別通入H2和Cl2,并通過控制真空泵抽氣速率調節沉積室的壓力至預定值;
(4)采用化學腐蝕法或機械去除法將沉積的Nb-W合金與基體與Mo、石墨或其他高熔點金屬進行分離,即可得到Nb-W合金材料或器件。
5.如權利要求4所述Nb-W合金材料的制備方法,其特征在于:所述原料Nb片和W片材厚度為0.2-0.5mm,純度均為99.95%;所述的H2和Cl2,氫氣純度為99.95%,氯氣純度為99.6%。
6.如權利要求4所述Nb-W合金材料的制備方法,其特征在于:通入Nb氯化室內的Cl2流量范圍為100-250ml/min,通入W氯化室內的Cl2流量范圍為30-120ml/min。
7.如權利要求4所述Nb-W合金材料的制備方法,其特征在于:所述Nb-W合金材料中,W含量為0.5-10wt.%,余量為Nb。
8.如權利要求4所述Nb-W合金材料的制備方法,其特征在于:所述Nb-W合金材料中,所述W含量為9.68wt.%,余量為Nb。
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