[發(fā)明專(zhuān)利]大型表膜構(gòu)件的框體的把持方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210140722.8
• 申請(qǐng)日: 2008-07-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102681334A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 谷村彰浩;前田拓郎
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 旭化成電子材料株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/64
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/64
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

本發(fā)明是申請(qǐng)?zhí)枮?00880023582.8、申請(qǐng)日為2008年7月2日、發(fā)明名稱(chēng)為大型表膜構(gòu)件的框體及該框體的把持方法的發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及作為表膜構(gòu)件（pellicle）的構(gòu)成構(gòu)件的框體，該表膜構(gòu)件用于防止在制造構(gòu)成LSI、液晶顯示器（LCD）的薄膜晶體管（TFT）、濾色片（CF）等時(shí)的光刻工序中使用的光掩模、中間掩模（reticle）中附著異物。特別是涉及作為液晶用大型表膜構(gòu)件的構(gòu)成構(gòu)件、即作為長(zhǎng)邊長(zhǎng)度為1m以上的大型表膜構(gòu)件的構(gòu)成構(gòu)件的框體。

背景技術(shù)

本發(fā)明是涉及作為表膜構(gòu)件的構(gòu)成構(gòu)件的框體的技術(shù)，首先說(shuō)明表膜構(gòu)件。

以往，在半導(dǎo)體裝置的制造中，在晶圓上形成電路圖案的光刻工序中，通常使用被稱(chēng)作表膜構(gòu)件的防塵部件來(lái)防止異物附著于光掩模、中間掩模。表膜構(gòu)件是在形狀與光掩模或者中間掩模的形狀相符的、厚度為幾毫米左右的框體的上緣面鋪展并粘接厚度為10μm以下的硝酸纖維素、纖維素衍生物（cellulose?derivative）或者氟類(lèi)聚合物等透明的高分子膜（以下稱(chēng)作“表膜”）而成的。通常，表膜構(gòu)件大多以在該框體的下緣面涂敷粘合材料、并在該粘合材料層上層疊保護(hù)膜而成的產(chǎn)品狀態(tài)出貨。

上述粘合材料層用于將表膜構(gòu)件粘著于光掩模或者中間掩模，而且，上述保護(hù)膜為了在該粘合材料層被用于上述用途前維持粘合材料的粘接力而保護(hù)該粘合材料層的粘接面。

該表膜構(gòu)件通常由表膜構(gòu)件制造者提供給制造光掩模或者中間掩模的制造者（以下稱(chēng)作“掩模制造者”）。掩模制造者自表膜構(gòu)件剝離上述保護(hù)膜，利用粘合材料層將表膜構(gòu)件粘貼于光掩模或者中間掩模之后，將該掩模或者中間掩模提供給進(jìn)行光刻的制造者、例如半導(dǎo)體裝置制造者或者液晶面板制造者。

在表膜構(gòu)件用作防塵部件的特性方面，該表膜構(gòu)件的處理需要處理為不附著塵埃。通常，在處理表膜構(gòu)件時(shí)，通常通過(guò)向形成在框體外側(cè)面的孔中插入銷(xiāo)狀工具來(lái)把持，通過(guò)把持工具主體而使人手不會(huì)直接接觸表膜構(gòu)件（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1）。另外，也提出了通過(guò)在框體的外側(cè)面形成用于供旋轉(zhuǎn)桿插入的槽而使用具有旋轉(zhuǎn)桿的工具來(lái)把持，通過(guò)把持該工具的主體而使人手不會(huì)直接接觸表膜構(gòu)件（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2）。

另外，在將表膜構(gòu)件從表膜構(gòu)件制造者搬運(yùn)到掩模制造者時(shí)，為了不附著灰塵，通常將表膜構(gòu)件放入到具有密封性的容納容器中來(lái)進(jìn)行搬運(yùn)。當(dāng)然，由于要求表膜構(gòu)件被可靠地固定在容納容器內(nèi)，因此，也提出了通過(guò)向形成在框體外側(cè)面的孔中插入銷(xiāo)狀功具而將表膜構(gòu)件固定于容納容器內(nèi)的方法（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)3）。

另外，也提出了通過(guò)由構(gòu)成容納容器的托盤(pán)和蓋夾著形成在框體外側(cè)面上的水平突出部而將表膜構(gòu)件固定于容納容器的方法（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)4或5）。

并且，不僅注目于形成在框體外側(cè)面上的突出部、槽或者孔對(duì)表膜構(gòu)件的把持、固定功能，還對(duì)表膜構(gòu)件的框體形狀也進(jìn)行了各種研究。例如，為了確保表膜構(gòu)件內(nèi)部與外部的透氣性，提出了設(shè)置從框體外側(cè)面貫穿到內(nèi)側(cè)面帶有過(guò)濾器的孔（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)6）。

另外，為了控制從光掩膜的圖案面到表膜的距離（基準(zhǔn)距）（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)7～9）、控制掩膜粘合材料的伸出（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)10或11）、形成掩模粘合材料的臺(tái)階（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)12）、確保粘貼于光掩模時(shí)的加壓區(qū)域（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)13），提出了在框體的上緣面或下緣面設(shè)槽、突起、臺(tái)階的各種形狀。

近年來(lái)，隨著LCD的大型化，光掩模及其使用的表膜構(gòu)件也大型化，最長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度大于1m的表膜構(gòu)件面世了。一般認(rèn)為，今后，為了應(yīng)對(duì)LCD的大型化、提高生產(chǎn)效率，光掩模的大型化也是必不可少的。

在大型光掩模的情況下，原料大多是合成石英基板，材料費(fèi)非常昂貴。因此，相對(duì)于設(shè)定的有效曝光區(qū)域尺寸，光掩模尺寸通常設(shè)計(jì)得極小。

在是粘貼于大型光掩模上的大型表膜構(gòu)件的情況下，鑒于光掩模尺寸的制約，對(duì)于被粘貼在從有效曝光區(qū)域到光掩模的外周端之間的表模的框體寬度也存在制約，即使表膜構(gòu)件大型化，框體的寬度實(shí)際上也無(wú)法增大。

并且，由于從光掩模的圖案面到表膜的距離（基準(zhǔn)距）受到曝光機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)制約，因此，對(duì)于框體的高度也存在制約，即使表膜構(gòu)件大型化，框體的高度實(shí)際上也無(wú)法增大。

另一方面，作為抑制表膜的面積為1000cm²以上的大型表膜構(gòu)件的框體撓曲的方法，提出了使框體的長(zhǎng)邊寬度大于短邊寬度（例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)14）。