[發明專利]利用噴涂技術制備自修復超疏水涂層的方法

無效

• 申請號: 201210140516.7
• 申請日: 2012-05-08
• 公開（公告）號: CN102641830A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 孫俊奇;李洋
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: B05D1/02
• 分類號: B05D1/02;B05D1/36;C09D125/18;C09D161/16;C09D179/02;C09D139/00;C09D133/02;C09D7/12
• 代理公司: 長春吉大專利代理有限責任公司 22201
• 代理人: 張景林;劉喜生

1.一種利用噴涂技術制備自修復超疏水涂層的方法，其步驟如下：

（1）基底的處理：分別使用乙醇和蒸餾水對基底表面進行清洗，然后自然干燥；

（2）涂層溶液的制備：將濃度為0.1～10mg/mL的陰離子聚合物A的去離子水溶液與濃度為0.1~10mg/mL的陽離子聚合物的去離子水溶液混合，制備得到復合物溶液I；再將陰離子聚合物B溶于去離子水中，制備成濃度為1.0~10.0mg/mL的溶液II；將表面活性劑C溶于去離子水配制成濃度為1.0~10.0mg/mL的溶液；將表面活性劑D溶于甲苯中配制成濃度為1~20mg/mL的溶液；

（3）多孔涂層的制備：將步驟（2）所制備的溶液I與溶液II交替地利用空氣噴涂法噴涂到步驟（1）處理過的基底之上，每次噴涂量為0.01~0.1mL/cm²，每種溶液噴涂后等待20~50秒讓溶液充分浸潤基底，再噴涂去離子水20~30秒沖洗掉多余的溶液I或溶液II；溶液I與溶液II交替噴涂60~120個循環后自然干燥；

（4）低表面能分子的引入：將步驟（2）中配制的表面活性劑C的去離子水溶液噴涂到上述涂層表面，噴涂量為0.1~1mL/cm²；自然干燥后再將表面活性劑D的甲苯溶液噴涂到該涂層表面，噴涂量為0.01~0.1mL/cm²，從而在基底表面得到具有自修復功能的超疏水涂層；

其中，陰離子聚合物A為聚乙烯苯磺酸鈉、磺化聚醚醚酮或磺化聚苯胺；陽離子聚合物為聚二甲基二丙烯基胺鹽酸鹽或聚丙烯胺；陰離子聚合物B為聚甲基丙烯酸或聚丙烯酸；表面活性劑C為十二烷基磺酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、全氟辛基磺酸鋰或全氟辛基磺酸鉀；表面活性劑D為四氫全氟C₄~C₁₆烷基三甲基硅烷或四氫全氟C₄~C₁₆烷基三烷氧基硅烷。

2.如權利要求1所述的一種利用噴涂技術制備自修復超疏水涂層的方法，其特征在于：基底為平面、曲面或不規則表面的基底。

3.如權利要求1所述的一種利用噴涂技術制備自修復超疏水涂層的方法，其特征在于：基底為硅片、金屬、玻璃或塑料。

4.如權利要求1所述的一種利用噴涂技術制備自修復超疏水涂層的方法，，其特征在于：陰離子聚合物A與陽離子聚合物以重復單元摩爾比為1∶1~1∶20的比例混合制備復合物溶液I。