[發明專利]制備異氰酸酯的方法

有效

• 申請號: 201210140270.3
• 申請日: 2007-12-12
• 公開（公告）號: CN102850239A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: A·韋爾弗特;C·克內徹;T·馬特克;E·施特勒費爾
• 申請（專利權）人: 巴斯夫歐洲公司
• 主分類號: C07C265/14
• 分類號: C07C265/14;C07C263/10
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 張振軍;劉金輝

本申請是申請號為200780050093.7、申請日為2007年12月12日、發明名稱為“制備異氰酸酯的方法”的專利申請的分案申請。?

本發明涉及一種在氣相中由二胺和光氣制備二異氰酸酯的方法。?

EP?570799，實施例1描述了借助洗滌塔后處理通過氣相光氣化得到的反應混合物，其中水滴流通過洗滌塔以分離光氣和氯化氫。?

這種后處理破壞過量光氣和氯化氫氣體使得它們不再可有利地用于反應中。?

EP?593334?B1和EP?699657?B1公開了利用或破壞光氣或氯化氫氣體的可能性，但未探究與再循環光氣相關的具體問題。?

EP?749?958?B1第[0018]段和EP?1078918?B1第[0018]段提到在三胺氣相光氣化以后回收過量光氣和回收的氯化氫氣體再用于光氣合成中的可能性。?

這里也沒有給出再循環光氣的詳細描述。?

US?4,581,174描述了通過在混合回路中使伯胺光氣化連續制備有機單異氰酸酯和/或多異氰酸酯，其中包含異氰酸酯的反應混合物部分再循環，再循環混合物中的HCl比例為小于0.5%。這里異氰酸酯連續再循環至具有游離胺的反應區促進脲的形成。沉淀的脲危害方法的穩定操作。?

GB?737?442描述了由異氰酸酯合成中回收光氣?；厥盏墓鈿獾腍Cl含量為0.5-0.7%。?

DE?10261191?A1和WO?2004/58689描述了其中包含光氣的進料料流的HCl含量為小于0.4或大于0.8重量%的光氣化。?

這些文件沒有區別氣相光氣化包括的問題與液相光氣化包括的那些，并且優選僅涉及液相光氣化。?

所有這些方法的缺點是忽略了光氣或光氣化期間的氯含量。?

申請號為PCT/EP2006/064850且申請日為2006年7月31日的國際專利申請描述了氣相光氣化方法，其中氯化氫含量應保持在特定閾值以下。?

WO?04/56758在寬次級組分列中提及作為光氣組分的氯氣，但沒有教?導任何關于氣相光氣化中氯氣含量的具體問題。?

US?3331873公開了一種借助活性碳從光氣中分離氯氣至小于25ppm含量的通常方法。?

在公開的方法中，沒有涉及光氣化中，特別是氣相光氣化中的具體問題。?

WO?01/00569描述了在至多100巴的壓力和0-130℃下液相光氣化中溴和含溴化合物含量對色值的作用。?

在公開的方法中，沒有涉及氣相光氣化中的具體問題。?

氣相光氣化通常在200-600℃下進行。由于這些高溫，方法的設計必須滿足特殊要求以實現方法的長期操作而不會由于材料，特別是反應器壁上在高溫范圍內提高的應力而泄露。?

高溫與腐蝕性反應介質結合產生對方法和所用材料的特殊需求。例如，已知在高溫(在約400℃或以上)下，光氣自催化分離成分子氯(Cl₂)和一氧化碳(CO)。在高溫下，氯氣可通過摻入材料而導致原料脆化。例如如果制備裝置中不可避免地震動，則已這樣脆化的材料，特別是反應器壁可受到應力并且斷裂或破裂，使得泄露可能性提高。另外，氯氣可與非合金鋼在170℃以上下以氯-鐵燃燒放熱反應。這尤其是在處理非常毒性光氣中是工業難題。?

因此，本發明的目的是提供一種使二胺與光氣在氣相中反應以形成相應二異氰酸酯和氯化氫(HCl)以可降低材料脆性的方式進行的方法。?

該目的通過一種通過制備二異氰酸酯的方法實現，其中使相應二胺與化學計量過量光氣在至少一個反應區中反應，?

其中反應條件的選擇使得至少反應組分二胺、二異氰酸酯和光氣在這些條件下為氣態，和?

將至少一種包含二胺的氣流和至少一種包含光氣的氣流供入反應區內，?

其中在與包含胺的料流混合以前包含光氣的料流中氯氣的質量分數為小于1000重量ppm和/或包含光氣的料流中溴的質量分數為小于50重量ppm。?

根據本發明，在氣相光氣化中，應努力確保反應期間存在的化合物，即起始原料(二胺和光氣)、中間體(特別是作為中間體形成的單氨基甲?；投被柞Ｂ?、最終產物(二異氰酸酯)和引入的任何惰性化合物在反應條件下保持氣相。如果這些或其他組分由氣相中例如沉積在反應器壁或設備的其他組件上，傳熱或流過受影響的組件可通過這些沉積物不理想地改變。這特別適用于由游離氨基和氯化氫(HCl)形成的胺氫氯化物，這是因為所得胺氫氯化物易于沉淀并且難以再次氣化。?