[發(fā)明專利]發(fā)光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210139171.3
• 申請日: 2012-03-19
• 公開（公告）號: CN102691905A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 原田光范
• 申請（專利權(quán)）人: 斯坦雷電氣株式會社
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V9/10;F21V7/22;F21V13/14
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;朱麗娟

1.一種發(fā)光裝置，其特征在于，包含：

熒光板，其利用激光照射而發(fā)出熒光；

第一激光光源，其配置成向所述熒光板的第一面照射第一激光；

第二激光光源，其配置成向所述熒光板的與所述第一面相對的第二面照射第二激光；

反射器，其具有所述第二激光穿過的光通過孔，且具備至少覆蓋所述熒光板上的所述第二激光的照射區(qū)域的凹狀反射面；和

透鏡，其配置在所述熒光板的所述第一面?zhèn)鹊目臻g中，對所述第一激光的由所述熒光板表面反射的反射光以及利用所述第一激光和所述第二激光的激勵而從所述熒光板發(fā)出的熒光進行會聚。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述反射器的所述凹狀反射面具有曲面形狀。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述熒光板在所述第一面具有凹部，所述凹部配置在所述第一激光入射的區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述第一激光在所述凹部內(nèi)進行多重反射。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4的任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述熒光板是被所述第一激光和第二激光激勵而發(fā)出黃色熒光的熒光體粉末燒結(jié)體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5的任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述發(fā)光裝置具有調(diào)節(jié)所述第一激光和第二激光的至少一方的光強度的調(diào)節(jié)器。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6的任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述反射器的所述凹狀反射面包含所述透鏡從所述熒光板會聚的光在所述熒光板上的發(fā)射區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7的任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述第一激光的由所述熒光板反射的正反射光和入射到所述熒光板的所述第二激光處于同一光軸上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8的任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述反射器的所述凹狀反射面形成為，朝著所述第二激光在所述熒光板上的照射區(qū)域反射由所述熒光板反射的所述第二激光的反射光。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9的任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述反射器的所述凹狀反射面的至少一部分是漫反射面。