[發(fā)明專利]一種消除殘影的圖像處理方法及系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210138433.4
• 申請(qǐng)日: 2012-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN103377464A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹宇寧
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京國藥恒瑞美聯(lián)信息技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06T5/00
• 分類號(hào): G06T5/00
• 代理公司: 深圳市君勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44268
• 代理人: 劉文求

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖像處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種消除目標(biāo)圖像的殘影的方法及系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，一些先進(jìn)的技術(shù)手段和計(jì)算機(jī)科學(xué)技術(shù)正在不斷地應(yīng)用在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，特別是在放射診斷和治療學(xué)科中，計(jì)算機(jī)圖像處理技術(shù)正發(fā)揮著越來越重要的作用。

現(xiàn)代越來越多的X射線成像系統(tǒng)采用平板探測(cè)器，主要有兩大技術(shù)流派，非晶硅平板和非晶硒平板，共同存在的一個(gè)問題就是殘影，尤其是非晶硒平板，其殘影可能存在數(shù)天才會(huì)完全消失。許多平板生產(chǎn)廠商通過硬件設(shè)計(jì)或改善工藝來解決這個(gè)問題，但是技術(shù)昂貴、復(fù)雜，而且仍然無法完全消除殘影。

有鑒于此，現(xiàn)有技術(shù)還有待改進(jìn)和提高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種消除殘影的圖像處理方法及系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中平面探測(cè)器上的圖像存在殘影的問題。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采取了以下技術(shù)方案：

一種消除殘影的圖像處理方法，其中，所述方法包括以下步驟：

A1、根據(jù)預(yù)定的曝光時(shí)間采集參考圖像；

A2、對(duì)參考圖像進(jìn)行降噪處理，將降噪后的參考圖像變換到梯度域，得到參考圖像梯度域；

A3、根據(jù)預(yù)定的曝光時(shí)間采集目標(biāo)圖像；

A4、對(duì)目標(biāo)圖像進(jìn)行降噪處理，將降噪后的目標(biāo)圖像變換到梯度域，得到目標(biāo)圖像梯度域；

A5、對(duì)參考圖像梯度域和目標(biāo)圖像梯度域進(jìn)行差分運(yùn)算，得到最終圖像梯度域；

A6、根據(jù)所述最終圖像梯度域獲取最終圖像。

所述的消除殘影的圖像處理方法，其中，所述步驟A2中對(duì)參考圖像進(jìn)行降噪處理時(shí)，其具體方法如下：

I(m,n)=1Σm-2m+2Σn-2n+2|I′(i,j)-I′(m,n)||I′(i,j)-I′(m,n)|I′(i,j);]]>

其中，I’(m，n)是參考圖像上待處理的像素點(diǎn)，I(i，j)是I’(m，n)周圍5×5鄰域內(nèi)的像素點(diǎn)，m、n、i和j均為自然數(shù)。

所述的消除殘影的圖像處理方法，其中，所述步驟A2中將降噪后的參考圖像變換到參考圖像梯度域，采用如下算法：