[發明專利]等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法及系統

有效

• 申請號: 201210137666.2
• 申請日: 2012-05-04
• 公開（公告）號: CN103382552A
• 公開（公告）日: 2013-11-06
• 發明（設計）人: 吳浩
• 申請（專利權）人: 無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/52
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

技術領域

本發明涉及半導體技術，特別是涉及一種等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法及系統。

背景技術

等離子化學氣相沉積是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，從而在基片上沉積出所期望的薄膜的技術。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應。

離子化學氣相沉積工藝需要在高真空環境下進行，晶片在密閉的腔體里進行反應。在不同腔體之間依靠活動門閥進行隔離，通過機械臂來傳送晶片。當機臺發生因機械手臂故障或者傳送配合失誤等傳送系統異常造成晶片掉落在活動門閥口時，會使晶片被門閥閉合動作夾破，導致晶片破損。

發明內容

基于此，有必要提供一種有效防止晶片破損的等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法。

一種等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法，包括以下步驟：對腔體間的活動門閥進行監測；獲取晶片掉落至活動門閥口的信息；發出控制指令暫停所述活動門閥閉合動作。

在其中一個實施例中，還包括步驟：發出控制指令停止機械臂抓取動作。

在其中一個實施例中，還包括步驟：根據所述晶片掉落至所述活動門閥口的信息生成異常通知，并發送至預設對象。

在其中一個實施例中，所述對腔體間的活動門閥進行監測的方式為光學監測。

在其中一個實施例中，所述光學監測具體為：對活動門閥口持續發射紅外線信號，并接收；所述獲取晶片掉落至活動門閥口的信息的步驟具體為：獲取紅外線信號中斷信息；根據紅外線信號中斷信息得到晶片掉落至所述活動門閥口的信息。

此外，還有必要提供一種等離子化學氣相沉積機臺異常監控系統。

一種等離子化學氣相沉積機臺異常監控系統，包括：

監測裝置，用于對腔體間的活動門閥進行監測，并獲取晶片掉落至活動門閥口的信息；

處理器，與所述監測裝置及所述等離子化學氣相沉積機臺通訊連接，用于接收晶片掉落至活動門閥口的信息，并發出控制指令暫停所述活動門閥閉合動作。

在其中一個實施例中，所述處理器還用于發出控制指令停止機械臂抓取動作。

在其中一個實施例中，所述處理器還用于根據所述晶片掉落至所述活動門閥口的信息生成異常通知，并發送至預設對象。

在其中一個實施例中，所述監測裝置對腔體間的活動門閥進行監測的方式為光學監測。

在其中一個實施例中，所述監測裝置包括：

光學探頭，用于對活動門閥口持續發射紅外線信號；及

接收器，用于接收光學探頭發射的紅外線信號；

其中，所述處理器與所述接收器通訊連接；當晶片掉落至所述活動門閥口時，晶片遮擋紅外線信號，接收器無法接收到紅外線信號；處理器得到紅外線信號中斷信息，并根據紅外線信號中斷信息得到晶片掉落至所述活動門閥口的信息。

上述等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法及系統中，通過對腔體間的活動門閥進行監測，實時監測晶片是否掉落至活動門閥口，一旦出現晶片掉落的情況，則發出控制指令暫停活動門閥的閉合動作，有效防止等離子化學氣相沉積機臺中因腔體間傳送系統異常而造成的晶片破損。

附圖說明

圖1為等離子化學氣相沉積機臺的示意圖；

圖2為本實施例的等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法的流程圖；

圖3為圖2所示步驟S120的具體流程圖；

圖4為本實施例的等離子化學氣相沉積機臺異常監控系統的示意圖。

具體實施方式

為了解決當機臺發生因機械手臂故障或者傳送配合失誤等異常造成晶片掉落在活動門閥口時，會使晶片被門閥閉合動作夾破，導致晶片破損的問題，提出了一種有效防止晶片破損的等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法。

請參閱圖1，在等離子化學氣相沉積機臺包括裝載腔10及傳送腔20，以裝載腔10及傳送腔20為例來說明，傳送腔20內為真空狀態，裝載腔10和傳送腔20通過活動門閥30隔開。在日常生產中，晶片放入裝載腔10。放入后，裝載腔10抽至真空，活動門閥30打開，傳送腔20內的機械臂22將晶片抓取放至傳送腔20內，然后送至與其連接的各反應腔(圖未示)反應。反應結束后，機械臂22抓取晶片放回裝載腔10，閉合活動門閥30，并升至常壓后取出。當等離子化學氣相沉積機臺的傳送系統出現異常時，晶片會掉落在活動門閥口，并最終導致損壞。

基于上述情況，提出如圖2所示的等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法，包括以下步驟：