[發明專利]新型金屬鍍工藝無效
| 申請號: | 201210136638.9 | 申請日: | 2012-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN103388136A | 公開(公告)日: | 2013-11-13 |
| 發明(設計)人: | 杜若楠 | 申請(專利權)人: | 杜若楠 |
| 主分類號: | C23C18/36 | 分類號: | C23C18/36 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 471003 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 新型 金屬 工藝 | ||
技術領域:
本發明屬化學鍍領域,特別涉及一種新型化學鍍技術。
技術背景:
人們日常生活中普遍使用的鍍件很少考慮成本的高低,很容易造成能源浪費,環境污染等缺點。
發明內容:
本發明為了克服以上技術上的不足,提供了一種新型化學鍍技術,這種化學鍍徹底改變了原來能源浪費帶來的缺點,節能環保。
本發明通過以下技術方案來實現的:
利用還原劑在活化另件表面上自催化還原沉積得到ni-p合金鍍層,獲得含w高達27∶25%的非晶ni-w-p合金鍍層,并顯示透視電鏡下其特殊的組織形及其在精化過程中組織化特征。將一定量的原料按以下比例配制:
硫酸鎳:20-35g/l
次磷酸鈉:15-30.
乙酸鈉:5-25.
乳酸:2-30.
糖精:3∶8.
氫氧化鈉:40-80.
將所有成分入反應釜內,在35-45攝氏溫度下反應5-6小時,然后加入氨水調ph值至3∶3混合均勻而成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





