[發明專利]常壓液膜式氣泡放電等離子體反應裝置

有效

• 申請號: 201210134820.0
• 申請日: 2012-04-28
• 公開（公告）號: CN102642913A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 李和平;聶秋月;包成玉;邢偉;王志斌
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: C02F1/78
• 分類號: C02F1/78;C02F1/72;C02F1/32;C02F1/46
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203
• 代理人: 樓艮基

1.常壓液膜式氣泡放電等離子體反應裝置，其特征在于，是一種同軸圓柱型常壓液膜式氣泡放電等離子體反應裝置，含有金屬管、絕緣介質管、管狀絕緣容器、端蓋和底座，其中：

金屬管，作為功率電極用，與頻率為5kHz-100kHz，電壓為1kV-30kV的高壓電源高壓端相連，

絕緣介質管，同軸地套在所述金屬管外，所述絕緣介質管內側面與所述金屬管外側面之間存在1mm-10mm的間隙，所述絕緣介質管底部封閉，其下端面低于所述金屬管的下端面，所述絕緣介質管和所述金屬管兩者上部用密封塞密封連接，所述絕緣介質管上遍布孔隙，

管狀絕緣容器，同軸地套在所述絕緣介質管外，且所述管狀絕緣容器軸向長度略短于所述絕緣介質管軸向長度，

端蓋，在徑向緊套在所述絕緣介質管外，所述端蓋縱向下端面與所述管狀絕緣容器的上端面固定連接，在所述端蓋一側開有一個出液口，供經過處理的溶液流出，

底座，在徑向與所述管狀絕緣容器外側緊密固定相連，在所述底座側面開有一個入液口，供待處理的溶液流入，并在所述管狀絕緣容器內側與所述絕緣介質管外側之間形成一層液膜，所述液膜與高壓電源低壓端相連并接地；

工作氣體從所述金屬管中央進入，到達所述絕緣介質管底部后，折返入所述金屬管外側面與絕緣介質管內側面之間的間隙，并從所述絕緣介質管上遍布的孔隙中流出，在所述絕緣介質管外側與所述管狀絕緣容器內側之間的液膜中形成大量氣泡，在所述頻率為5kHz-100kHz，電壓為1kV-30kV的高壓電源作用下發生氣泡放電，產生等離子體，對于在所述絕緣介質管外側和管狀絕緣容器內側之間區域內流動的待處理溶液發生凈化作用。

2.常壓液膜式氣泡放電等離子體反應裝置，其特征在于，是一種平板型常壓液膜式氣泡放電等離子體反應裝置，含有絕緣容器、絕緣介質板、金屬平板以及支撐板，其中：

絕緣容器，其上、下端面中央各連通有一個進氣口，寬度方向一側的中心線上連通著一個入液口，供待處理的溶液流入，寬度方向另一側的中心線上連通著一個出液口，供處理后的溶液流出，

絕緣介質板，共有上、下兩塊，分別位于所述絕緣容器長度方向中心線的上、下兩側，二者保持平行，待處理液經所述入液口流入，經所述出液口流出，在所述兩塊絕緣介質板之間形成一層液膜，該液膜與高壓電源低壓端相連并接地，所述兩塊絕緣介質板沿長度方向的左、右兩側及沿寬度方向的前、后兩側分別內接于所述絕緣容器的左、右、前、后內側面上，所述上下兩塊絕緣介質板上遍布孔隙，

金屬平板，共有上、下兩塊，作為功率電極用，與頻率為5kHz-100kHz，電壓為1kV-30kV的高壓電源高壓端相連，所述上、下兩塊金屬平板分別位于所述上、下兩塊絕緣介質板的外側，與相鄰的絕緣介質板之間存在垂直距離為1mm-10mm的間隙，所述兩塊金屬平板沿長度方向與所述絕緣容器寬度方向左、右兩個內側面相連，且兩端各有一塊沿寬度方向連接著所述絕緣容器左、右兩內側面的支撐板；

工作氣體從所述絕緣容器上、下兩個進氣口進入后，沿著所述金屬平板的寬度方向流動，從所述金屬平板長度方向邊緣與所述絕緣容器相應的長度方向內側面之間的縫隙進入所述金屬平板與相鄰絕緣介質板之間的所述間隙，并通過所述孔隙進入所述液膜內，形成大量氣泡，在所述頻率為5kHz-100kHz，電壓為1kV-30kV的高壓電源作用下發生氣泡放電，產生等離子體，對于在所述上、下兩塊絕緣介質板之間區域內流動的待處理溶液發生凈化作用。