[發(fā)明專利]一種酸性氧化電位殺菌水及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210134317.5
• 申請日: 2012-04-28
• 公開（公告）號: CN102659218A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 邵鵬飛
• 申請（專利權(quán)）人: 邵鵬飛
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461
• 代理公司: 上海漢聲知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及殺菌消毒領(lǐng)域，特別涉及一種酸性氧化電位殺菌水及其制備方法。

背景技術(shù)

消毒領(lǐng)域中引入氧化還原電位的概念是源于日本20世紀(jì)80年代研制生產(chǎn)的酸性氧化電位水生成機(jī)及由生成機(jī)產(chǎn)生的酸性氧化電位水。酸性氧化電位水(簡稱：EOW)是指具有高氧化還原電位(ORP)、低pH值特性和低濃度有效氯(ACC)的水。

酸性氧化電位水殺菌的機(jī)理如下：

首先，由于自然界中大多數(shù)種類的微生物生活在pH?4-9的環(huán)境中，而酸性氧化電位水的pH值可影響微生物生物膜上的電荷以及養(yǎng)料的吸收、酶的活性，并改變環(huán)境中養(yǎng)料的可給性或有害物質(zhì)的毒性，從而達(dá)到殺滅微生物的目的。

其次，由于氫離子、鉀離子、鈉離子等在微生物生物膜內(nèi)外的分布不同，使得膜內(nèi)、外電位達(dá)到動態(tài)平衡時有一定的電位差，一般約為-700～+900mV。需氧細(xì)菌的生物膜內(nèi)外的的電位差一般為+200～+800mV，而厭氧細(xì)菌的生物膜內(nèi)外的的電位差一般為-700～+200mV。酸性氧化電位水中的氧化、還原物質(zhì)和pH等因素，使其ORP高于1100mV，超出了微生物的生存范圍。具有高ORP(即ORP＞1100mV)的EOW接觸微生物后迅速奪取電子，干擾生物膜平衡，改變生物膜內(nèi)外電位差、膜內(nèi)外的滲透壓，導(dǎo)致生物膜通透性增強(qiáng)、細(xì)胞腫脹及細(xì)胞代謝酶的破壞，使胞內(nèi)物質(zhì)溢出、溶解，從而達(dá)到快速殺滅微生物的目的。

最后，有效氯能使細(xì)胞的通透性發(fā)生改變，或使生物膜發(fā)生機(jī)械性破裂，促使細(xì)胞內(nèi)溶物向外滲出，致使細(xì)菌死亡。并且，次氯酸為中性小分子物質(zhì)，易侵入細(xì)胞內(nèi)與蛋白質(zhì)發(fā)生氧化作用或破壞其磷酸脫氫酶，使糖代謝失調(diào)致使細(xì)菌死亡，從而達(dá)到殺滅微生物的目的。

EOW系統(tǒng)的殺菌能力是以ACC為主導(dǎo)，低pH值及高ORP為重要促進(jìn)的三者協(xié)同作用的結(jié)果。該系統(tǒng)協(xié)同效果遠(yuǎn)高于單一的ACC、低pH值及高ORP作用的簡單加和，其ACC越高、pH值越低、ORP越高，系統(tǒng)綜合滅菌效果就越好。

但是，現(xiàn)有的酸性氧化電位水生成機(jī)在生成酸性氧化電位水時，會產(chǎn)生較多的有害氯氣，存在安全隱患。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的第一目的在于提供一種酸性氧化電位殺菌水的制備方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的酸性氧化電位水生成機(jī)在生成酸性氧化電位水時，會產(chǎn)生較多的有害氯氣，存在安全隱患的技術(shù)性問題。

本發(fā)明的第二目的在于提供一種酸性氧化電位殺菌水，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的酸性氧化電位水生成機(jī)在生成酸性氧化電位水時，會產(chǎn)生較多的有害氯氣，存在安全隱患的技術(shù)性問題。

本發(fā)明目的通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種酸性氧化電位殺菌水的制備方法，包括以下步驟：

(1)提供可以產(chǎn)生氫離子的A單元；

(2)提供含有有效氯的B單元；

(3)將A單元加入到B單元中，得到酸性強(qiáng)氧化性溶液，所述酸性強(qiáng)氧化性溶液的pH值在2-7間，其氧化還原電位為800-1300mV，其有效氯含量為30-3000mg/L。

優(yōu)選地，所述A單元為酸性試劑。

優(yōu)選地，所述B單元選自液氯、次氯酸鹽、次氯酸鹽的復(fù)鹽、亞氯酸鹽或有效氯前體物質(zhì)的一種或幾種，所述有效氯前體物質(zhì)是指與酸反應(yīng)可以生成有效氯的含氯物質(zhì)。

優(yōu)選地，所述B單元為中性或者堿性，優(yōu)選地，所述B單元為堿性。

優(yōu)選地，所述A單元與所述B單元中至少有一個單元為溶液狀態(tài)。

優(yōu)選地，所述A單元加入到所述B單元中的加入方式選自滴加、分批加入、緩慢加入或霧化加入的一種。

優(yōu)選地，所述A單元分批加入到所述B單元中，首批添加量應(yīng)保證混合液的pH不小于5。

優(yōu)選地，所述A單元緩慢加入到所述B單元中，加入時間不小于1分鐘。

優(yōu)選地，所述A單元的pH值在4.5-7間時，所述A與所述B單元的混合方式為直接混合，所述直接混合方式是指將A單元一次性加入到B單元。

一種酸性氧化電位殺菌水，包括使用前獨(dú)立分裝的A單元和B單元，所述A單元為酸性試劑；所述B單元為含有有效氯的試劑。

優(yōu)選地，所述B單元選自液氯、次氯酸鹽、次氯酸鹽的復(fù)鹽、亞氯酸鹽或有效氯前體物質(zhì)的一種或幾種，所述有效氯前體物質(zhì)是指與酸反應(yīng)可以生成有效氯的含氯物質(zhì)。

優(yōu)選地，所述B單元為中性或者堿性，優(yōu)選地，所述B單元為堿性。

優(yōu)選地，所述A單元與所述B單元混合后得到酸性強(qiáng)氧化性溶液，所述酸性強(qiáng)氧化性溶液的pH值在2-7間，其氧化還原電位為800-1300mV，其有效氯含量為30-3000mg/L。