[發明專利]一種配置紫外光照射清潔功能的真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201210133624.1
• 申請日: 2012-05-03
• 公開（公告）號: CN102644052A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 李斌成;郭春
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/00
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 成金玉

1.一種配置紫外光照射清潔功能的真空鍍膜機，其特征在于包括：真空模塊(1)、熱蒸發模塊(2)、光學元件夾具模塊(3)、薄膜厚度/速度監控模塊(4)、溫度控制模塊(5)和紫外光照射清潔模塊(6)；真空模塊(1)通過真空管道連接到真空鍍膜室(7)，實現真空環境鍍膜；熱蒸發模塊(2)位于真空鍍膜室(7)底部，實現薄膜材料的熱蒸發；光學元件夾具模塊(3)和薄膜厚度/速度監控模塊(4)位于真空鍍膜室(7)頂部，分別實現光學元件夾持和真空鍍膜時薄膜工藝參數控制；溫度控制模塊(5)在真空鍍膜室(7)內，實現薄膜制備過程中真空鍍膜室(7)溫度監控；所述紫外光照射清潔模塊(6)，位于真空鍍膜室(7)中，紫外光照射清潔模塊(6)由紫外光光源(6-1)、冷卻水循環系統(6-2)和金屬外套(6-3)組成。紫外光光源(6-1)旁置冷卻水循環系統(6-2)，并有金屬外套(6-3)將兩者封裝，最后固定到支架(8)上；紫外光照射清潔模塊(6)工作時通過冷卻水循環系統(6-2)對紫外光光源(6-1)進行冷卻降溫；紫外光照射清潔模塊(6)通過紫外光照射分解紫外光光源(6-1)周圍的氧分子產生氧原子，氧原子與放置在光學元件夾具模塊(3)上的被鍍光學元件(9)上的碳氫污染物發生光敏氧化反應，實現對被鍍光學元件(9)的清潔目的；同時紫外光與被鍍光學元件(9)內部和/或薄膜層內的雜質相互作用，實現對被鍍光學元件(9)內部和/或膜層的性能優化；紫外光照射清潔模塊(6)的功能由真空鍍膜機的軟件系統控制，也可以手動操作。

2.根據權利要求1所述的配置紫外光照射清潔功能的真空鍍膜機，其特征在于：所述紫外光光源(6-1)為工作波長低于300nm的紫外燈、準分子紫外燈，或者紫外激光器。

3.根據權利要求1所述的配置紫外光照射清潔功能的真空鍍膜機，其特征在于：所述支架(8)在真空鍍膜室(7)內位置固定或者可調，同時紫外光照射清潔模塊(6)與被鍍光學元件(9)之間的距離可調。