[發(fā)明專利]電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210133399.1
• 申請日: 2012-04-28
• 公開（公告）號: CN102692824A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊波;馬鵬川
• 申請（專利權(quán)）人: 上海理工大學(xué)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海三和萬國知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31230
• 代理人: 陳偉勇

1.電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，包括一光源系統(tǒng)、一成像系統(tǒng)、一成像工作板，其特征在于，所述光源系統(tǒng)的光線通過所述成像系統(tǒng)照向所述成像工作板；

所述光源系統(tǒng)包括至少一光源子系統(tǒng)，所述光源子系統(tǒng)包括一發(fā)光器件、一整形透鏡，所述發(fā)光器件發(fā)出的光線通過所述整形透鏡整形為均勻的光線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述發(fā)光器件外罩有一反光罩，所述反光罩的光線照射端朝向所述成像系統(tǒng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述光源子系統(tǒng)還包括一濾光片，所述濾光片位于所述發(fā)光器件與所述整形透鏡之間，所述發(fā)光器件的光線通過所述濾光片照向所述成像系統(tǒng)，所述濾光片過濾去光線中除紫外線以外的其他光線。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述光源子系統(tǒng)還包括一光圈，所述光圈位于所述發(fā)光器件與所述整形透鏡之間，所述光圈的控制端連接一微型處理器系統(tǒng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述光源系統(tǒng)還包括至少一光敏元件，所述光敏元件位于所述整形透鏡與成像工作板之間，所述光敏元件連接所述微型處理器系統(tǒng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述整形透鏡的上端外圍呈正方形，下端外圍呈矩形，所述矩形面積大于所述正方形面積，通過所述發(fā)光器件照射出的光線垂直所述整形透鏡的上端端面，所述整形透鏡的下端端面平行于上端端面。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：還包括一動(dòng)作機(jī)構(gòu)，所述動(dòng)作機(jī)構(gòu)包括一用于固定投影膠片的框架、四個(gè)萬向軸，所述萬向軸一端連接所述框架，另一端連接所述成像工作板，所述動(dòng)作機(jī)構(gòu)連接所述微型處理器系統(tǒng)；

四個(gè)萬向軸在所述微型處理器系統(tǒng)的控制下，一起向同一方向移動(dòng)，保持所述框架與所述成像工作板平行，且所述光源系統(tǒng)的光線與所述框架所在平面垂直。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：四個(gè)所述萬向軸中部各設(shè)有一滑槽，所述萬向軸通過滑槽連接一設(shè)有滑片裝置的光學(xué)鏡片組。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述光學(xué)鏡片組包括至少一放大鏡、一凹透鏡，所述放大鏡位于所述凹透鏡與成像工作板之間，所述放大鏡、凹透鏡的邊緣處各均勻設(shè)有四個(gè)所述滑片裝置；

所述滑片裝置的控制端連接所述微型處理器系統(tǒng)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種電路曝光機(jī)多光源光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述光源采用100-200W的高壓水銀燈。