[發明專利]仿生陶瓷/金屬疊層復合支架涂層制備工藝無效
| 申請號： | 201210132903.6 | 申請日： | 2012-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN102644077A | 公開（公告）日： | 2012-08-22 |
| 發明（設計）人： | 徐江 | 申請（專利權）人： | 南京航空航天大學 |
| 主分類號： | C23C28/00 | 分類號： | C23C28/00;C23C14/14;C23C14/34;C23C8/36;A61F2/82;A61L27/00 |
| 代理公司： | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人： | 李紀昌 |
| 地址： | 210016 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 仿生 陶瓷 金屬 復合 支架 涂層 制備 工藝 | ||
1.仿生陶瓷/金屬疊層復合支架涂層制備工藝，其特征在于步驟為：
a.?首先利用雙陰極等離子濺射沉積Ta層，工藝參數如下：靶材電壓500~650V，工件電壓250~300V，靶材與工件間距10~20?mm，工作氣壓35Pa，沉積溫度450~850℃；濺射時間為10-20min，獲得100-200nm厚的Ta層；
b.?然后進行離子氧化，工藝參數如下:?工件電壓650~850V，氧化溫度450~600℃，工作氣壓35Pa，氧分壓0.1-1?Pa，離子氧化為5-10min；
c.利用雙陰極等離子濺射沉積Au或Mg層，工藝參數如下：靶材電壓400~650V，工件電壓200~250V，靶材與工件間距10~20?mm，工作氣壓35Pa，沉積溫度250~450℃；濺射時間為5-10min，獲得10-20nm厚的Au或Mg層，重復a-c步驟至少30次獲得厚度5微米以上的疊層涂層；?
d.濺射的靶材的種類：Au和Mg中的一種以及純T?a靶；
e.?工件材料的種類：316L不銹鋼。
2.根據權利要求1所述的仿生陶瓷/金屬疊層復合支架涂層制備工藝，其特征在于所述步驟a中靶材電壓600V，工件電壓280V，靶材與工件間距15?mm，工作氣壓35Pa，沉積溫度800℃；濺射時間為15min，獲得200nm厚的Ta層。
3.根據權利要求1所述的仿生陶瓷/金屬疊層復合支架涂層制備工藝，其特征在于所述步驟b中工作電壓800V，氧化溫度500℃，工作氣壓35Pa，氧分壓0.5Pa，離子氧化為8min。
4.根據權利要求1所述的仿生陶瓷/金屬疊層復合支架涂層制備工藝，其特征在于所述步驟c中靶材電壓600V，工件電壓220V，靶材與工件間距15?mm，工作氣壓35Pa，沉積溫度400℃；濺射時間為8min，獲得20nm厚的Au或Mg層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于南京航空航天大學，未經南京航空航天大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210132903.6/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種旋轉封底式淺層原位采泥器
- 下一篇：外置式厭氧膜生物反應器
- 同類專利
- 專利分類
