[發明專利]一種多子孔徑自聚焦方法

有效

• 申請號: 201210132639.6
• 申請日: 2012-04-28
• 公開（公告）號: CN102721964A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: 朱岱寅;蔣銳;毛新華
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: G01S13/90
• 分類號: G01S13/90
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 許方

1.一種多子孔徑自聚焦方法，其特征在于包括如下步驟：

步驟1，對待處理聚束式合成孔徑雷達圖像分子孔徑成像，得到p個子圖像，p為正整數；

步驟2，在各個子孔徑內采用相位梯度自聚焦算法對各個子圖像進行自聚焦處理得到各個子圖像補償相位函數一階導數的表達式：

其中：脈沖位置m∈[0，M-1]，M為全孔徑脈沖長度，1≤i≤p，為相位誤差梯度值的理論值，Δ_1i是線性相位影響分量，ε_i(m)是相位估計誤差值，rect_i(.)是矩形窗函數；

步驟3，利用子孔徑相關算法得到各子圖像的方位向偏移量和距離向偏移量，拼接補償相位函數的一階導數，具體實施如下：

步驟3-1，根據距離向偏移量平移每副子圖像完成距離徙動矯正；

步驟3-2，利用如下表達式得到線性相位差Δ_i，j：構建線性相位差估計矩陣Δ=Δ1,2,Δ1,3Δ1,4,...,Δ1,pΔ2,3,Δ2,4,...,Δ2,pΔi,j,...,Δi,p......Δp-1,p,]]>

其中：1≤i＜j≤p，N_a為子孔徑長度，δ_i，j為第i幅子圖像與第j幅子圖像方位向偏移量；

步驟3-3，根據表達式δ＝HΔ得到方位向偏移量矩陣δ，H為系數矩陣；

步驟3-4，拼接子孔徑相位誤差函數得到補償相位函數的一階導數修正向量Δ^MD:Δ^MD=(HTH)-1HTδ,]]>

步驟3-5，用補償相位函數的一階導數修正量修正步驟2所得相位誤差函數表達式中的線性相位影響分量Δ_1i，得到修正后的子圖像補償相位函數一階導數表達式：

步驟4，對步驟3修正后的子圖像補償相位函數的一階導數積分得到補償相位函數，在圖像的方位數據域中，將補償相位函數與圖像函數共軛相乘，完成聚束式合成孔徑雷達圖像的相位補償。