[發(fā)明專利]一種新型烘缸有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210132533.6 | 申請日： | 2012-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN102704311A | 公開（公告）日： | 2012-10-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 程健光 | 申請（專利權(quán)）人： | 程健光 |
| 主分類號： | D21F5/02 | 分類號： | D21F5/02 |
| 代理公司： | 廣州新諾專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44100 | 代理人： | 羅毅萍 |
| 地址： | 528322 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 新型 | ||
1.一種新型烘缸，包括滾筒，與所述滾筒連接設(shè)置有驅(qū)動輪，所述驅(qū)動輪位于滾筒的端部位置，其特征在于，所述滾筒為中空結(jié)構(gòu)，所述滾筒在外表面上設(shè)置有用于加熱滾筒的電磁線盤。
2.如權(quán)利要求1所述的新型烘缸，其特征在于，所述滾筒的平均壁厚不超過16mm。
3.如權(quán)利要求2所述的新型烘缸，其特征在于，所述滾筒在端部設(shè)置有用于支撐滾筒的轉(zhuǎn)軸，所述驅(qū)動輪設(shè)置于該轉(zhuǎn)軸上。
4.如權(quán)利要求3所述的新型烘缸，其特征在于，還包括用于放置電磁線盤的線盤托架，所述線盤托架形成與滾筒的外表面相配合的曲面，所述電磁線盤設(shè)置于線盤托架上靠近滾筒一側(cè)。
5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的新型烘缸，其特征在于，所述驅(qū)動輪為齒輪。
6.如權(quán)利要求1-4任一項所述的新型烘缸，其特征在于，所述驅(qū)動輪為皮帶輪。
7.如權(quán)利要求1-4任一項所述的新型烘缸，其特征在于，與電磁線盤相連設(shè)置有用于控制電磁線盤工作狀態(tài)的控制單元。
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