[發明專利]一種自修復透明抗菌涂層的制備方法

無效

• 申請號: 201210132441.8
• 申請日: 2012-05-01
• 公開（公告）號: CN102632022A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: 孫俊奇;王旭
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: B05D1/18
• 分類號: B05D1/18;B05D1/38;B05C11/10
• 代理公司: 長春吉大專利代理有限責任公司 22201
• 代理人: 張景林;劉喜生

1.一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其步驟如下：

A.將聚陽離子和聚陰離子分別溶于溶劑配成濃度為0.01～100mg/mL、pH值為1～14的構筑基元溶液；

B.將清潔處理后的基底浸入到聚陽離子構筑基元溶液中1～40分鐘，然后將基底取出，水洗除去基底表面物理吸附的物質；

C.將上步驟基底浸入聚陰離子構筑基元溶液中1～40分鐘，然后將基底取出，水洗除去基底表面物理吸附的物質；從而完成一個沉積周期的涂層制備；

D.重復步驟B、C，在基底上完成多個沉積周期的涂層的制備，從而得到具有自修復透明涂層的基底；

E.將抗菌劑溶液分散到濃度為0.01～1mol/L的表面活性劑溶液中，抗菌劑與表面活性劑的摩爾比為1∶300～1∶50，超聲5～200分鐘后得到抗菌劑溶液；

F.將具有自修復透明涂層的基底浸泡在上步驟的抗菌劑溶液中5～200分鐘，然后將基底取出，水洗后用氮氣吹干，從而在基底上制備得到自修復透明抗菌涂層。

2.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：聚陽離子為聚烯丙基胺鹽酸鹽、聚乙烯基亞胺、明膠、聚四乙烯基吡啶、聚二烯丙基二甲基胺鹽酸鹽、殼聚糖、聚L-賴氨酸、聚苯胺中的一種或幾種。

3.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：聚陰離子為透明質酸、聚丙烯酸、海藻酸鈉、聚苯乙烯磺酸鈉、磺化聚醚醚酮、磺化葡聚糖中的一種或幾種。

4.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：聚陽離子和聚陰離子的用量摩爾比為1∶10～10∶1。

5.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：抗菌劑為三氯生、甲硝唑、頭孢曲松鈉、頭孢唑林鈉、頭孢霉素、硝酸銀、殼聚糖、聚ε-賴氨酸中的一種或幾種。

6.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：表面活性劑為十二烷基硫酸鈉、十六烷基三甲基溴化銨、芐基十六烷基氯化銨、十二烷基苯磺酸鈉中的一種或幾種。

7.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：溶劑為水、丙酮、乙醇、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、氯仿、二氯甲烷中的一種或幾種。

8.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：聚陽離子構筑基元溶液的濃度為0.1～50mg/mL，pH值為2～12之間；聚陰離子構筑基元溶液的濃度為0.1～50mg/mL，pH值為2～12，聚陽離子和聚陰離子的用量摩爾比為1∶8～8∶1。

9.如權利要求8所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：聚陽離子構筑基元溶液的濃度為1～10mg/mL，pH值為7.5～12；聚陰離子構筑基元溶液的濃度為1～10mg/mL，pH值為2～6.5，聚陽離子和聚陰離子的用量摩爾比為1∶5～5∶1。

10.如權利要求1所述一種基于層層組裝技術制備自修復透明抗菌涂層的方法，其特征在于：基底為石英、光學玻璃、單晶硅、氟化鈣、金屬或塑料。